阿斯麦|ASML工厂探秘：3亿美元一台的EUV光刻机首次亮相( 四 ) 光刻机|极紫外光刻|ASML工厂探

2013年，ASML发售第二代EUV系统NXE:3300B，但是精度与效率不具备10nm以下制程的生产效益；2015年ASML又推出第三代EUV系统NXE:3350 。
2016年，第一批面向制造的EUV系统NXE:3400B开始批量发售，NXE:3400B的光学与机电系统的技术有所突破，极紫外光源的波长缩短至13nm，每小时处理晶圆125片，或每天可1500片；连续4周的平均生产良率可达80%，兼具高生产率与高精度。
2019年推出的NXE:3400C更是将产能提高到每小时处理晶圆175片。目前，ASML在售的EUV光刻机包括NXE:3300B、NXE:3400C两种机型。
据ASML介绍，对于EUV光刻机的研发，ASML总计花了90亿美元的研发投入和17年的研究，才最终获得了成功。
凭借着英特尔、台积电、三星着三大头部客户的强力支持，再加上ASML自身在EUV光刻领域的持续研发投入，以及在EUV光刻设备上游的关键器件和技术领域的多笔收购及投资布局，使得ASML多年来一直是全球EUV光刻机市场的唯一供应商。
1997年，英特尔牵头创办了EUV LLC联盟，随后ASML作为唯一的光刻设备生产商加入联盟，共享研究成果。
1999年6月，ASML收购MicroUnity Systems Engineering Inc. 业务部JMaskTools，使得公司在先进技术节点方面可以提供最完整的解决方案，改善了公司光刻机的扫描和成像能力，显著增加了聚集深度，扩大了光刻窗口，提高了芯片产量。
2001年5月完成对Silicon Valley Group，Inc. (SVG) 的收购，获得了投影掩罩瞄准技术、扫描技术，极大的提升了公司产品的技术，并在美国拥有了研发生产基地。
2007年3月，ASML完成了收购光刻解决方案提供商Brion Technologies, Brion的计算光刻技术(设计验证，分辨率增强技术RET以及光学邻近效应修正OPC)能使半导体制造商得以对制作出的集成电路图形进行仿真，并可更正掩模图形，从而优化制造工艺，提高成品率。
2013年5月30日，ASML以25亿美元完成了对美国准分子光源提供商Cymer公司的收购，为ASML量产EUV光刻系统起决定性作用。
不过，需要指出的是，美国政府同意ASML收购Cymer是有条件的，ASML需同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以此满足所有美国本土的产能需求。同时，ASML还需要保证Cymer的产品的55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查。这也为美国后续阻挠ASML对中国大陆出口EUV光刻机埋下了伏笔。
2016年11月5日，AMSL收购了卡尔蔡司半导体制造技术公司（Carl Zeiss SMT）的24.9%股权，以强化双方在半导体微影技术方面的合作，研发下一代Hig NA EUV光刻系统。
2016年11月22日，ASML完成对汉微科Hermes Microvision收购，以强化对半导体制造商的高科技服务。
以上这些收购和投资，使得ASML几乎控制了整个EUV光刻机上游的关键环节，为其长期独霸EUV光刻机市场奠定了坚实的基础。凭借着在浸没式光刻机及EUV光刻机市场的成功，ASML最终成为了全球光刻机市场的绝对霸主。
根据统计数据显示，2020年全球半导体光刻机总销量约413台，销售额约130亿美元，其中用于晶圆制造的基本均为ASML、尼康和佳能三家公司的产品。
如果以销量来看，ASML销售258台占比62%（其中EUV光刻机出货量已经达到 31台），佳能销售122台占比30%，尼康销售33台占比8%；如果以销售额来看，ASML的份额高达近90% 。
三、ASML EUV光刻机工厂揭秘
CNBC在本月初的时候参观了ASML位于荷兰维尔多芬（Veldhoven）总部的EUV光刻机工厂。据介绍，该工厂占地约50000平方米，共有1500名员工，他们正在7 x 24小时轮班工作，ASML销售到全球各地的EUV光刻机均由该工厂进行总装生产。
据ASML介绍整部EUV光刻机是由“照明光学模组”（Illuminator）、“投影光学模组”（Projection optics）、“光罩传输模组”(Reticle Handler)、“光罩平台模组”(Reticle Stage)、“晶圆传送模组”（Wafer Handler）、“晶圆平台模组”（Wafer Stage）及“光源模组”（Soure）这七大模组组成。