国产|国产“28nm光刻机”重大进展！交付0号样机、1号机( 三 ) 光刻机|28nm|国产“28nm光刻机”

在物镜系统研发方面，主要由中科院长春光机所（现北京国望光学）负责。投影物镜是精密光学部件，直接决定着曝光的成像质量，必须保证投影物镜在工作状态中的高度稳定。此前NA 0.75光刻机曝光光学系统已经通过02专项验收，可满足90nm级ArF干式光刻机的需要。但浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。目前国内在NA1.35浸润式物镜系统的研发上进展如何尚不清楚。
工件台方面， 2019年底，华卓精科的浸没式光刻机双工件机台已经刚通过了02专项的CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设。
【国产|国产“28nm光刻机”重大进展！交付0号样机、1号机】光源系统方面，主要由中科院光电研究院负责准分子激光光源系统研发，由北京科益虹源负责产业转化。有消息显示，此前国产40W 4kHz ArF光源已经交付，不过国产193nm ArF浸没式光刻机所需的60W 6kHz ArF光源似乎仍在研发攻关当中。