euv|原子弹和光刻机到底谁更难：其实都不难，关键还是在态度

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在芯片这件事情上，中国现在憋屈至极，华为等相关企业更是到了“最危险的时候”。想我堂堂中华，连原子弹都能攻克，难不成竟连一块芯片都造不出来吗？
麒麟芯片相信大家都听说过，这是华为自主研发的最先进芯片，但华为就像是一个账户里躺着亿万财富的人，缺少密码，钱就是取不出来。
麒麟芯片设计出来以后，要想变成真实的产品，得去找台积电加工生产，用到的关键设备就是荷兰阿斯麦公司的极紫外EUV光刻机。

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光刻机对于芯片制造来说是必不可缺少的工具，就像绘画离不开画笔，雕刻必须要用刻刀一样。
阿斯麦公司2019年仅仅销售了229台光刻机，其中26台为EUV光刻机，但却撬起了数千亿美元的全球新兴产业。
对于中国的芯片生产而言，最关键的瓶颈就是缺少EUV光刻机，因为阿斯麦不卖给中国企业，而中国也没有生产能力。
那么，当年一穷二白的中国都能造出原子弹和氢弹，把人造卫星送上天，而以现如今中国之经济科技实力，还造不出EUV光刻机吗？

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对于光刻机的战局，一度曾经引发40多个国家入局，但为何最后是毫不起眼的小国荷兰，击败了日本和美国，竟然可以逆风翻盘，成为垄断高端光刻机市场的大佬呢？
光刻机被称为现代半导体行业皇冠上的明珠，现在单台EUV光刻机配件多达10万个，价格更是高达1.2亿美元。
当前世界上光刻机市场的老大是荷兰的阿斯麦ASML，占据了全球高端光刻机市场的98%，剩下的被日本的尼康和佳能瓜分。
而在7纳米以下的EUV光刻机市场则被阿斯麦完全垄断，尼康和佳能等竞争对手只能望门兴叹。

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我们先来看看光刻机是什么。我们这里讲到的光刻机是生产芯片用的，可不是我们日常用来刻光盘的那个刻录机，但他们的原理还真有点相似。
光盘刻录机是用激光照射可刻录光盘上的染料层，在上面烧蚀出特定尺寸的凹坑，用来储存数据。
光刻机也是将紫外光作为“画笔”，把预先设计好的芯片电子线路书写到硅晶圆旋涂的光刻胶上。
具体的技术细节我们不详细描述，但大家要知道的就是，光刻机是芯片生产过程中技术含量最高的设备，而光刻机中的曝光光源更是核心中的核心，直接决定了芯片的线宽等特征尺寸。

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【 euv|原子弹和光刻机到底谁更难：其实都不难，关键还是在态度】目前，曝光光源的主流配置都是深紫外DUV（193nm）光源，但最先进的是采用极紫外EUV（13.5nm）光源的EUV光刻机。
这么一说，好像没啥难度呀，反正感觉没有原子弹、氢弹那么难？
是不是比造原子弹、氢弹难，我们可以先做一个宏观对比。
环顾世界，能造出原子弹的国家有不少，联合国五大常任理事国自不必说，就连朝鲜、伊朗这种技术非常落后的国家都已经触碰到了原子弹技术的关键，所以难不难你自己想。
但光刻机就不同了，尤其是高端的EUV光刻机，整个世界只有荷兰阿斯麦一家，除此别无分店。
单从国家数量以及国家质量对比，其中的难度就可见相差巨大。
那光刻机到底为什么困难呢，别的国家难也就罢了，怎么对中国而言，也会这么难呢，这不科学呀，到底难在哪里呢？