光刻机|0.1nm!央视:国内首台光镜镀膜设备投用,光刻机的最后一块拼图( 二 )



结合中科院高能物理研究院正在安装的高能同步辐射光源 , 可谓是双管齐下 。 据了解 , 截至2021年6月底 , 中科院高能物理研究院正在进行的“高能同步辐射光源安装项目”已经完成了70% 。 与之相匹配的设备单位 , 预计将在2022年初完成设备的全部交付使用 。
值得一提的是 , 高能同步辐射光源是全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一 , 可满足大多数航天以及半导体行业对于光源制程的需求 , 其中包括芯片制程 。 高强度的光源可以在一定程度上降低高端芯片对于光刻机设备的制程难度 , 为我国高端芯片制程的发展提供重要设备保障 。

与中科科仪推出的镜镀膜设备一样 , 我国的这台高能同步辐射光源设备 , 具备全国产技术、自主设计、国内加工的特点 。 中科院与中科科仪在半导体光源领域中取得的成就 , 弥补了我国在高端光学设备领域中的空白 。 为我国在基础科学、工程科学等领域实现原创性、突破性创新研究的目标 , 提供了重要支撑平台 。
伴随国家对半导体行业的重视 , 国产厂商在半导体领域中实现了许多从无到有的突破 。 照此趋势下去 , 相信我们距离实现先进制程芯片自主化生产的目标已经不远了 。 祝愿国产半导体厂商能够愈发强大 , 早日解决半导体核心技术卡脖子的问题 , 在半导体领域中所向披靡 。

对于我国首台高能光源设备步入安装阶段 , 你们有啥看法?欢迎留言、讨论~