华为|国产7nm指日可待,3大核心技术都已突破,外媒:华为也还等得起
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目前 , 全球最先进的制程掌握在台积电手中 , 另外三星也非常强势 , 不过因为在光刻机的问题上 , 台积电总是有优先获得EUV光刻机的权利 , 所以三星总是慢台积电一步 。
台积电三星之争
台积电这边已经到了2nm , 前段时间也计划将会在2024年实现量产 , 可三星这边的3nm还没开始量产 , 而在5nm的良品率上 , 台积电也要高于三星 , 这就导致双方之间的差距越来越大 , 而这种差距并非是制程上的差距 , 而是技术上的差距 。
三星为了追赶台积电 , 做了不少功课 , 包括在3nm上使用最新的GAA技术 , 这种GAA技术不同于台积电在3nm上所使用的finfet技术 , 根据三星这边的介绍的字 , 与传统的7nmfinfet技术相比 , 3nmGAA技术的逻辑面积效率提高了35%以上 , 功耗降低了50% , 逻辑面积减少了45% , 这样看起来 , 这种GAA技术的确是非常给力的 。
如果说三星的GAA技术真的能够试产成功 , 那么对于台积电而言将会是一个不小的挑战 。 由于这种技术存在着太多的不确定性 , 所以台积电这边并不打算在3nm上使用 。 而是选择在2nm上使用 。 你看 , 从这里就不难看出台积电的老奸巨猾 , 等到三星这个小白鼠做过实验之后 , 台积电才肯用这种技术 。
所以有人说三星是在进行一场豪赌 , 这话的确是没错的 , 赢了一举超越台积电 , 输了大不了从头再来 , 反正赌不赌都是落后 , 对于三星而言没差 。
核心技术已经突破
比起台积电、三星 , 国内的代工能力的确是要差不少 , 就拿国内第一大芯片代工厂中芯国际来讲 , 目前能够量产的芯片制程也仅仅只是14nm , 虽然已经研发出了7nm , 但是因为没有光刻机所以一直都没能够完成量产 。
所以 , 国内的代工能力主要是差在设备上 。 在这样的情况下 , 国内开始大力致力于这种设备 , 希望能够在一定程度上完成自给自足 , 不再受制于人 , 如今在最关键的三大核心技术上 , 我们已经有了突破 。
早在去年年底 , 中芯国际梁孟松就曾经表示 , 已经完成了7nm的研发 , 目前就只差设备 。 而想要制造7nm芯片 , EUV光刻机是最重要的 。 目前国内最新一代的光刻机会在今年年底或者明年年初才能下线 , 不过也只是与DUV光刻机相似 , 但通过DUV光刻机经过多次曝光 , 也是能够生产数7NM来的 。
而子啊光刻机的问题上 , 目前国内厂商已经能够生产出用于7nm的光刻胶了 。 南大光电方面表示 , 研发的ARF光刻胶目前已经通过了国家验收 。 能够用于14-7nm的芯片制造
这也就意味着 , 国产7nm芯片指日可待了 , 这三大技术在完成公关之后 , 相信我们很快就能够制造出7nm了 。 那么华为是否等得起用上这种国产7nm呢?、
华为等得起
从2019年开始 , 美国就对华为开始了无情的打压 , 这老美也不知道是犯什么病 , 就是要跟华为死磕到底 。 结果搞得两败俱伤 。 说华为这边没受到影响是不可能的 。 在禁令的影响下 , 华为的手机业务受到了极大的损失 。
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