华为|其实大家没必要过度担忧华为芯片|光刻机|it芯片

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近日，华为轮值董事长郭平说卡脖子问题不是技术理论问题，而是成本、工艺和时间问题，芯片的原理并不是秘密，确实是工艺和成本问题，像14nm ，和n+1低配7nm ，中芯国际都开始量产，只是良品率和产能跟台积电，三星等全球一线半导体代工巨头还有一定差距而已， 3nm芯片华为海思正在研发。

【华为|其实大家没必要过度担忧华为】

而半导体设备方面，我们国产生态链已经有了雏形，尤其是华虹的刻蚀机已经通过验收，北方华创的半导体制造设备发展迅速，是目前国内唯一一家具有8英寸立式扩散炉和清洗设备生产能力的公司。

目前，半导体制造设备国产化进程中对我们困扰较大的还是光刻机，最被大家期盼的还是上海微电子28nm光刻机问世时间，因为28nm是成熟制程个先进制程的关键节点，攻克的意义很大，很多车规芯片和智慧家具芯片28nm以下完全可以满足，我们真正薄弱的是基础研究和原创理论以及两者有重要影响的基础体制，期待国产28纳米DUV光刻机早日投产，先建立一条完全去美技术的芯片生产线。

在这个基础上，不断加大力度研发EUV光刻机，期待EUV光刻机实现国产化的那一天，彻底打破美国人的封锁，解决技术卡脖子问题。