华为|国产“低能离子注入机”完成认证，曾被美国窃取重要技术 5G|诺基亚|爱立信|5g通信|手机行

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【华为|国产“低能离子注入机”完成认证，曾被美国窃取重要技术】华为创始人任正非曾经说过，国内拥有顶尖的芯片设计能力，却无法单独实现量产，这是因为国内的基础工业水平不足，导致缺少相关核心设备的支持。无独有偶，台积电张忠谋也曾表示，国内大陆只要做好芯片设计就行了，制造环节交给台积电。

这很好地反映出了一个事实，芯片制造过程就是国内半导体事业最大的短板，而其主要影响因素来自于设备上的差距。就比如说大家熟知的光刻机，直到现在国内连一台高端的EUV光刻机都没有，这直接限制了国产芯片的进步和崛起。
而且不止是光刻机，国内对其它的一些核心设备，也存在很高的需求，这些都是国产公司必须要攻克的难题。那么就目前来看，关于半导体设备，国内有没有取得一些进展和突破呢？

国产“低能离子注入机”完成认证大家都知道，芯片产业链主要分为三个环节，分别是设计、生产和封测，其中在设计和封测方面，国产公司都不逊色于国外巨头；唯独在最为重要的芯片生产领域，国内努力研发了几十年，却还是没有达到先进水平，每年都需要从国外大量进口芯片。

然而随着美国一纸规则的下达，国外厂商都开始拒绝向华为等中企供货，这让国内意识到了只有将技术掌握在自己手里，才能拥有更大的话语权。为此，国产半导体公司坚定了自主研发的决心，全面进军芯片制造市场，致力于彻底摆脱受制于人的局面。
再加上国内的大力扶持，最近这一年来，国产芯片先后传来了很多好消息。例如上海微电子的光刻机，已经达到了28nm精度，预计年底就能正式投入使用。还有就是最近有媒体报道称，国产“低能离子注入机”完成认证，又解决了一项难题。

可能很多人都不知道“低能离子注入机”是干什么用的，毕竟它不像光刻机那么出名。但其实与光刻机一样， “低能离子注入机”也是一种非常关键的半导体设备，主要功能是将几百千伏电子能量的离子，注入到生产好的硅片中，改变其载流子浓度和导电类型。

简而言之， “低能离子注入机”就是向硅片注入离子的核心设备，同样能在芯片制造环节中发挥出重要的作用。而且离子注入机也有区别，目前一共有三大类，分别是低能大束流注入机、中束流注入机和高能注入机。
其中“低能离子注入机”是当前最先进的，可满足7nm等高端制程芯片的生产要求。而此次国内完成认证的“低能离子注入机” ，则产自于凯世通这家国产半导体巨头，尽管它没有华为海思等公司出名，但对离子注入机的研究却是国内最深入的。

据了解，凯世通生产出来的可用于12英寸晶圆的“低能离子注入机” ，已经通过了各大芯片制造商的技术认证。不出意外的话，接下来这些芯片厂商，将会大量采购凯世通的设备，国产“低能离子注入机”迎来了庞大的市场。