产业界|对话张懋中:高校的价值是发明未来而非眼下救急,产业科研忌跟风( 二 )


张懋中以荷兰光刻机巨头ASML公司为例,“20nm制程以下,全世界现在只有一家公司能做到,就是荷兰的ASML。”ASML能在光刻机领域脱颖而出,原因之一是能择善固执,千山独行,有始有终。
光刻机是制造芯片的核心装备,它采用类似照片冲印的技术,把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上。光刻机包括DUV(高紫外光)光刻机和EUV(极紫外光)光刻机等多种类型,DUV覆盖7nm及以上制程需求,随着先进制程向5nm及以下进化,EUV成了刚需。
“当别的公司都在继续改进它们所谓的传统光源来做光刻时,ASML想到最终要解决问题还是要进入DUV和 EUV范围的光源。它花了相当长的时间来做这件事,当时没有其他公司跟进,都认为不可能或者投资太大而不愿意做。等到它一做出来以后,其他公司已经太迟了,包括日本几家著名的光学公司全部都给关了。”张懋中表示,这是一件残忍的事,实际上做决定时的方向,也就是在所谓的“定义未来”之时的方向,已经决定是能生存还是被淘汰。
ASML的成功在全球范围内是否可以成功复制?张懋中认为“永远都有更好的东西”,“我相信已经有很多其他公司在发展更好的东西了,但是这段时间ASML是独家。”
研究型大学的价值是“发明未来”而非“眼下救急”,学术界科研要避免去热闹领域
当前,中国集成电路产业快速发展,但在半导体设备、芯片设计软件等领域仍面临痛点。而在集成电路产业人才方面,《中国集成电路产业人才白皮书(2019-2020年版)》显示,我国集成电路人才在供给总量上仍显不足,到2022年,芯片专业人才缺口预计超过20万人。
集成电路产业遭遇人才之渴,如何培养市场所需的芯片人才?张懋中对澎湃新闻(www.thepaper.cn)表示,“这就是困难的地方,如果你已经知道这是一个急需的市场,它已经搞得风风烈烈、又热又闹了,这个时候应该想想怎么走在前面。如果大家都做3nm、2nm,你再去追赶3nm、2nm,等你赶到的时候它可能已经是1nm以下了。”
张懋中强调,所以今天,尤其是学术界,研究型大学很重要的价值在于“发明未来”,而不是救当下之急。
“今天产业界遇到的眼前困难都是类似救火性质的,但不应把大学做研究的精英充当救火队队员,这是误用。”他表示,产业界遇到的当即问题只能自行解决,不能也不应仰赖大学,大学无法既“发明未来”又“拯救当下”。
那么大学要做什么?“大学要往前走,替产业界穿隧架桥,在前期先探寻和打通关节,甚至不可避免地先尝试失败,以淬炼其创造力。”比如在光刻机领域千万不要停留在DUV/EUV,“DUV/EUV已经给ASML做掉了,我们是不是应该往往X射线、伽马射线走?可以往前走的更短的波还有的是。”
“我们要培养一个年轻人对科学追求的兴趣,教育他不只能够解决问题,他还得能定义问题。定义和解决问题,才是能发明未来的关键。”张懋中说,爱因斯坦规范了物理学的未来,乔布斯界定了移动通讯和消费市场的未来,那些获得诺贝尔奖的科学家也在各自领域发明未来。他们定义未来的方法不一样,但都以自己的方法定义了未来,也发明了未来。
那么中国能够定义和发明未来的人才在哪里?怎样培养这样的人才?张懋中表示,这是教育上最值得下功夫来思考的一个问题。
2019年从新竹交通大学校长的位置上退休后,张懋中回到洛杉矶加州大学任教。
谈到对踏入科研的年轻人的建议,张懋中告诉澎湃新闻(www.thepaper.cn),年轻科研工作者要具备科研热情、雄心、毅力,要耐得住寂寞,走自己的路,避免去热闹的研究领域,当一个研究课题太热闹时,“那里面找到金钻的机会并不大,因为人太多了,好东西早就已经掘拾光了。”