UP主捡块石头搓出个CPU？恕我直言，人类做不到。( 二 ) 只见他捡起路边的石块

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乔赫拉尔斯基方法：专门用于获得单晶半导体（例如硅、钛和砷化铀）、金属（例如铂、铂、银、金）、盐和合成宝石的晶体生长方法。
我们平时看到那一个个圆片的晶圆，这名UP直接用水果刀，在棒子上像“片”羊肉一样把晶圆切出来。

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这样成片的硅晶圆有了，下一步才是展现实力的时候——刻：光刻和刻蚀。
这位UP ，先是涂上一层“光刻胶” ，然后把自己的硅晶圆搬到一个小暗房，用紫外线等把电路图印在晶圆上，这样UP主就完成了土“光刻”这一步。

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当我们有了刚从棒子上“片”好的晶圆，得先做一次无尘化处理，但凡一粒灰尘混进去，都会对硅晶圆的导电性产生影响，那这块晶圆基本就废了。

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做好无尘化清洁处理，我们再涂上一层光刻胶，开始印电路图。
为啥用光刻胶呢，因为它对紫外线极其敏感。
我们拿出芯片设计阶段提前设计好的电路图掩膜，用强紫外线光束透过掩膜把电路图印在光刻胶上，第一轮光刻就算结束了

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看上去也不是很难？
那你听完我给你讲的这几个细节。

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这也是我们平时网上看到的制芯实验室都是“黄不拉几”的原因，有点像是很久以前胶片冲洗的暗房。
说完环境，我们再说光刻最重要的玩意——光。
就一个紫外线光也分类很多，比如UV（紫外线：Ultraviolet）光。
目前业界使用最多的DUV（DeepUltraviolet）光，它的波长是193nm ，除了光刻， DUV还被用在矫正近视眼上面。

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之所以我们能造出来越来越小制成的芯片，从14nm到7nm再到5nm甚至3nm ，都源于不断精进的紫外线波长。
巧妙的是， EUV其实还是用的DUV的光源，只要用DUV的光脉冲去连续两次打击液态金属锡，就可以激发出波长更短的EUV 。

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并且上述这些操作，可都是纳米级的哈。
除此之外，光刻机里那些反射EUV光线的镜子也大有学问。

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那个直径30厘米的镜子，用ASML的话说：
“这可能是宇宙中最平滑的人造结构” 。
它有多平呢？如果这块镜子有地球那么大，那它不平的地方也就一根头发丝的厚度。

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光刻只是把电路图印在上面，而工业级的刻蚀等一系列步骤可以把这些电路图垒起来，并让它导电。
咱先说UP主这边，光刻结束以后，他直接掏出一瓶酸开始了他的土“刻蚀”步骤。

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但酸刻蚀会刻的相当不均匀，还可能会损坏晶圆体，而且要酸冲蚀好几遍才能弄干净。
但正儿八经的刻蚀应该是啥样的？