中企攻克“光刻机”技术，国产芯片即将起飞？前几日

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前几日，联发科推出了自己的第一款4nm芯片，这款芯片也是目前全球第一款4nm芯片，可以说联发科为我们打开了新世界的大门。
从联发科推出新型芯片我们大致能猜到， ASML应该是又推进了自己的光刻机工艺，很多人担心中国在光刻机领域的实力差距会进一步被拉大，但事实上中国的局势并没有那么糟，因为我国在背后偷偷藏了底牌。

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上海微电子在创造历史
很多人应该都知道，上海微电子代表着目前我国光刻机领域的最强实力，在老美对中国进行了光刻机封锁之后，上海微电子主动肩负起了社会责任，开始向28nm进行技术攻坚。
虽然28nm芯片的制程工艺并不算太高，甚至与ASML的最高工艺差了三四代，但是在战略地位上，上海微电子研发的28nm光刻机拥有着举重若轻的地位，不夸张地讲上海微电子在创造一个奇迹。

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首先，研发周期全球非常短远超ASML ，如果按照上海微电子所承诺的年底之前交付光刻机来计算，从上海微电子宣布要制造28nm光刻机到成功研发，上海微电子只用了不到一年的时间。
这种进步速度简直快到令人难以置信，当初ASML从90nm到28nm用了将近十年的时间，就连ASML内部员工都不得不承认，进步速度这一方面，中国企业已经超过了ASML ，上海微电子就是一个最高的例子。
其次，上海微电子在光刻机研发独立性上超过ASML ，很多人觉得这是在吹牛皮，事实上并不是。

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虽然ASML表面上是全球光刻机领域的统治者，但是这是在许多供应商的帮助下才完成的，光刻机的精密零部件超过10万个， ASML基本上都是靠其他厂商代工才完成的，也就是说ASML基本上就负责一个设计和组装工作。
这就是ASML一直被老美卡脖子，并扬言把图纸给中国，中国也造不出光刻机的原因。然而上海微电子已经实现了在大多数零部件方面的自主研制，可以说独立性这一方面上海微电子已经超过了ASML 。

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将帮助中国摆脱困境
虽然在工艺方面， 28nm光刻机算不上先进，但是对于芯片行业来说绝对是一场及时雨。有了这一类型光刻机的量产，我国的芯片行业将能够解决燃眉之急。
首先，国内的大部分行业采用的都是28nm及以下的芯片工艺，如汽车行业、计算机行业、物联网、工业设备等采用的基本都是28nm的芯片。
所以7nm、5nm的芯片看似高端，但应用范围非常狭窄，目前根本没有几个行业能够用得到，所以28nm光刻机的技术突破已经能够帮助实现很多行业的芯片自给自足了。

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其次，虽然目前上海微电子在28nm光刻机领域还差临门一脚，但是其在14nm光刻机技术领域已经展开了研究，并且在这一领域，上海微电子已经有了很多技术性的突破，两项技术几乎是齐头并进。
这也意味着可能当28nm光刻机量产不久之后，我国还将在短时间之内迎来14nm光刻机的技术突破，这会大大缩小中国光刻机与ASML之间的差距。
14nm光刻机虽然与28nm光刻机只相差一代的技术，但是其性能上的差距是巨大的，这也是14nm光刻机技术被定义为EUV的原因。