CPU|荷兰阿斯麦又要出新光刻机了，比EUV光刻机更先进，单台3亿美元！ GPU|芯片|it芯片

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据媒体报道，荷兰阿斯麦称即将开发出新一代光刻机，名字叫High NA（高数值孔径），据称这种光刻机能够生产3nm以下芯片，且生产出来的芯片面积将缩小1.7 倍，芯片密度增加 2.9 倍。新光刻机预计每台售价3亿美元，到2023年就能够交付客服使用。

如果阿斯麦的新光刻机研发成功的话，就意味着阿斯麦在技术方面与竞争对手的差距将进一步拉大，阿斯麦在高端光刻机领域的垄断地位也将进一步巩固。更重要的是荷兰阿斯麦光刻机首先要满足韩日等企业的需求，我们还要排在它们之后，这也从侧面压制了中国芯片制造的进步，导致我们始终无法赶超韩日企业。当前中国在芯片制造领域正面临前所未有的困难局面，一头被美国打压，另一头国外企业也没闲着，也在加快技术迭代。

【CPU|荷兰阿斯麦又要出新光刻机了，比EUV光刻机更先进，单台3亿美元！】这些血淋淋的现实正告诉我们，我国高端光刻机的研发已经迫在眉睫，要么加快研发脚步，实现跨越式进步，要么寻找到技术捷径，实现弯道超车。只有在新技术没有出现之前尽力追赶，缩小差距，才能在未来不会落后于人，这关系到我国整个半导体行业的发展。