Rsic-V尽管号称开源 , 但终究不是我们自研的 。
自研龙芯架构与英特尔差距4-5年 , 并且生态方面尚未形成 。
移动设备、嵌入式设备尚无自研架构 。
制造方面 , 中芯国际最先进
在芯片制造领域 , 中芯国际是国内最高代表 。
目前 , 中芯国际可以量产14nm、12nm芯片 , 7nm完成技术开发、5nm、3nm研发已经提上了日程 。
由于缺少EUV光刻机 , 中芯国际始终无法突破7nm芯片制造 。
光刻机方面 , 代表为上海微电子
上海微电子目前已经成功研发出90nm光刻机 , 在三次曝光后可以制造28nm的芯片 。
而ASML的EUV光刻机可以制造3nm芯片 , 并且正在研发下一代 NA EUV光刻机 , 将数值孔径系统升级到0.55 , 可以制造2nm、1nm芯片 。
普通光刻机向EUV光刻机迭代 , 可以说是真正的挑战 , 没有5—10年时间 , 根本不可能实现 。
此外 , 芯片材料方面 , 包括光刻胶、靶向材料、硅片、掩膜版等被日本企业所掌握 , 国内企业仍然处于弱势 。
总的来说 , 我国芯片产业已经取得了长足发展 , 尤其是在芯片设计方面 , 但制造环节仍与国际先进水平差距较大 。
但没有制造 , 空有设计也无意义 , 所以我辈仍需努力 。
写到最后
芯片不仅是高新技术的基础 , 也广泛的应用在军事、工业、农业等领域 , 没有芯片就谈不上发展 , 更谈不上高科技 。
从俄罗斯受制于芯片这件事可以看到 , 如果国产芯片不能突围 , 未来的路将会越走越窄 , 我们的日子也会越来越难 , 什么梦想也不会实现 。
未来 , 我国芯片几年才能实现突破呢?5年?10年?还是更久?
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