文章图片
由于半导体生产是流程复杂、工艺多 , 且用水量多 , 其产生的半导体废水则是废水量大、污染物很多、浓度高等特点的工业废水 。
(1)半导体废水采取分质分系统预处理是非常重要的 , 不同工艺产生的废水水质差别非常大 , 比如有含氟废水、含磷废水、含氨废水、含铜废水等 , 如果采取混合一起处理 , 不仅加大了处理难度(交叉感染等) , 而且忽略了混合后的污染物浓度问题 , 不利于更精细化处理 。
半导体生产 ,图片来源于网络(2)预处理工艺一般以物理化学法为主 , 其中化学沉淀法是使用较多的方法 , 可以根据废水的污染物不同采取不同的化学药剂 , 进而做到将其沉淀去除 。
例如含氟废水是采用CaCl2做为其的化学药剂 , 使氟离子形成CaF2沉淀 , 与絮凝沉淀的方法(PAC、PAM等)使沉淀形成矾花 , 在沉淀池当中进行固液分离 , 达到比较理想的除氟效果 。
点赞 , 关注 , 收藏 。 漓源环保还会更新更多的废水处理知识 。
【半导体|半导体废水处理方案会有什么?分质分系统预处理】
(3)半导体废水会有排放出高浓度氨氮废水 , 而处理高浓度氨氮废水的工艺为氧化法、吹脱法、生物法等 。 某企业采用的是两级吹脱的方式 , 将氨氮浓度超过1000mg/L的废水做到达标排放 。
吹脱法脱除水中氨氮 , 是利用NH4+和NH3之间的动态平衡 , 在碱性条件下将气体通入水中 , 使气液相互充分接触 , 同时水中溶解的游离氨穿过气液界面 , 向气相转移 , 从而达到去除氨氮的目的 。 影响吹脱效率的主要因素有:pH值、水温、布水负荷、气液比、足够的气液分离空间 。
(4)厌氧→缺氧→好氧(A2/O)工艺不仅是去除可以去除有机物的方法 , 而且具有很好的脱氮除磷效果 , 可以用在处理半导体废水中的有机废水 。 这三个池子功能会有所不同 , 且停留时间根据时间情况设计 , 厌氧主要是释放磷 , 同时对有机物进行部分氨化;缺氧池主要是用来脱氮的;好氧池能够去除BOD还能进行消化和吸收磷 。
- 芯片|EUV光刻机没用了?日本之后,中国高端芯片解决方案来了
- 三星|2023 CES:英飞凌展示ADAS等解决方案
- 米家|赞!红魔MAGIC GPU自研稳帧引擎荣获2022年度最佳终端解决方案奖
- 汽车|汽车芯片仍将短缺,部分功率半导体交期延长至39~64周
- 星球日报|百度新元宇宙方案40天完成开发;HTCViveXR套装预售9888
- 半导体|实事求是,我们离中低端半导体制造完全自主可控还要3-5年
- 戴尔|日媒:“在2024年之前,戴尔将排除中国生产的半导体!”
- 半导体|负责任地推荐三部手机,适合学生党上班族,轻松再用三五年
- 第三代半导体市场达68亿,中企攻破关键材料难题,北京基地也建成
- 大数据|三个维度下国内半导体设备国产化率的观察