中国光刻机起步很早，65年就有80年代世界领先，为何后来落后了光刻技术是所有微纳器件制造

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。 ——韦亚一《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》
说起ASML这个公司，现在应该说即使是对这个领域一无所知的人，也都对这家公司有了一些了解，为什么会有这样的情况出现，最重要的原因无非就是它在光刻机方面拥有了非常好的技术突破，而这一突破绝对值得人们去关注。

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▲著名的ASML公司
前言
掩模对准曝光机这个名字听着就非常的高端，一般人还真的是接触不到这样高端的领域，所以他的另外一个叫法光刻机相比之下也就亲切很多，虽然还是不知道这个是做什么的，但是会觉得不那么高深。

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▲光刻机
实际上这个光刻机是一种设备，主要的作用和生产芯片有很大的关系，如果想要制造芯片就需要光刻机，没有光刻机就制造不出芯片，而且光刻机可以左右芯片的质量，在制造工艺身上要求是非常高的，在制作要求上更是人们想象不到的苛刻。

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▲雕刻芯片
半导体领域发展迅猛
【中国光刻机起步很早，65年就有80年代世界领先，为何后来落后了】在建国初期中国的半导体领域有了飞速的发展，那是因为当时有一批非常优秀的科学家回到了祖国，他们将自己在国外所学全部用到了祖国的科学技术建设方面，其中最令人称赞的莫过于钱学森和钱三强两位科学家，而就是他们的努力下，使得中国的半导体技术有了飞速的发展。

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▲钱学森和钱三强
而且在那个时候不仅半导体领域上中国的技术非常的领先，就连其他科技领域也是有很强的技术在研发。有了这些科学家的不断努力，使得中国的科研不仅独立，而且取得了很高的成就，那个时候半导体业的发展也是非常迅猛的。

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▲光刻机研发
很早就研发了光刻机
如今越来越多的国家关注到光刻机这个技术是因为芯片需要光刻机，实际上早在上个世纪60年代的时候，我国就已经有了第一台65型接触式光刻机就诞生了。要知道在那个时候，世界上根本没有几个国家拥有光刻机，中国能在那个时候就研发出来属于自己的光刻机，应该说在这一领域是非常的领先的。
之后一直到上个世纪80年代，中国的光刻机技术在全世界范围内可以说都是名列前茅的，很多国家的光刻机技术都不能和中国的光刻机技术相比，因此不谦虚的讲，当时中国的光刻机技术绝对是世界上顶尖的。

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▲光刻机自主研发
80年代后走向衰落
那个时候中国的光刻机技术虽然领先，但是也遇到了很多的问题，因为搞研发就需要有很多资金的投入，但是这些资金投入之后，有一些技术上的问题，在当时又不能够很好的解决，因此在看到国外很多先进的设备之后，国家也就放弃了，对设备的研发变成了购买。
这样最终就导致了中国在光刻机的研发上完全停滞了，很多搞光刻机研发的公司，因为没有了资金的支持，就变得岌岌可危，最后公司也倒闭破产，没有了科学家的研发这个项目就断了后来就被别人超越了。