芯片产业又遭围剿！如果日本限制对我国出口，影响有多大？开头近日

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近日，在芯片领域又有不好的消息传出来，日本、荷兰已与美国达成协议，同意限制向中国出口制造先进半导体所需的相关设备。

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看来我国芯片被卡脖子的情况，又蒙上了一层阴影。
荷兰阿斯麦公司，想必大家都听说过，尤其是它家最强的EUV极紫外光光刻机，是全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片制程的光刻机，属于独霸全球的地位。

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那隔壁的日本呢？千万不要以为日本的半导体产业落寞了，就在美国大举封杀中国半导体产业的同时，中国从日本市场获取了不少半导体设备。
日本芯片材料
半导体产业链是非常庞大的系统，主要有原材料、半导体设备、IC设计、晶圆制造、封装测试等细分领域。
其中，半导体设备方面，欧美日占据大部分市场份额；IC设计方面，美韩欧位居产业链顶端。

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而晶圆制造方面，中国台湾的台积电占据半壁江山；封测领域方面，中国大陆、中国台湾及美国都排名前列。
很多人不了解的是，在半导体原材料领域，日本是当之无愧的强国，拥有旭化成、揖斐电、昭和电工、信越化学、富士胶片、住友化学、JSR等一大批实力强劲的半导体材料企业。

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说到材料，就不得不提到一种叫做光刻胶的东西，它是一种在紫外光等光照或辐射下，溶解度会发生变化的薄膜材料。
在光刻机工作的时候，首先将光刻胶涂在硅片上形成一层薄膜，通过一系列复杂的曝光装置进行曝光后，光线会被投射到光刻胶上。

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此时曝光区域的光刻胶，会发生化学变化，在随后的化学显影过程中被去除，最后掩模的图案就被转移到了光刻胶膜上。
随后通过一系列的工艺加工后，光刻胶上的图案就被转移到下层的薄膜上，再经过多次迭代以及多种物理过程，便产生集成电路。

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举个形象的比喻：如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎” ，那么光刻胶就是这部引擎的“燃料” 。
就算引擎再好，如果燃料里面杂质太多，引擎也转得不快。正因如此，就算有最牛的极紫外光EUV光刻机，如果没有好的光刻胶辅助，最终芯片的光刻精度还是不行。
毫不夸张的说，光刻胶对集成电路的性能、成品率以及可靠性，起到了非常大的影响。

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按照曝光波长分类，光刻胶可分为UV:i/g型光刻胶，波长大于300nm；DUV:KrF型光刻胶，波长248nm,和ArF型光刻胶，波长193nm；以及最新的极紫外:EUV光刻胶，波长进一步降低至28纳米以下。
从整体业态来看，目前全球光刻胶市场高度集中，日美把控着绝大部分市场份额。
其中日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球70％以上的市场份额，垄断地位稳固，尤其在高端EUV市场高度垄断，拥有绝对的话语权。

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