不用进口光刻机?国产芯找到“新材料”,功耗降低50倍

如今 , 在美国修改规则以及全球缺芯的双重冲击之下 , 我国在芯片方面和世界相比还是有点差距 。 因此 , 近年来 , 我国企业屡屡被外国卡脖子 , 其中最典型的代表就是华为 。 而之所以会被卡脖子 , 最重要的一点就是芯片生产上面 , 具体来说就是高端光刻机 。
不用进口光刻机?国产芯找到“新材料”,功耗降低50倍
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最近 , 我国又有新突破了 , 这次不是光刻机国产 , 而是我国在芯片生产中找到了“新材料” , 当然 , 我认为准确来说应该是新方向 , 那就是碳基材料 , 生产碳基芯片 , 据说这种芯片比目前常见的硅基芯片在功耗方面甚至能降低五十倍 。
那么 , 发展碳基芯片对我国而言会带来哪些好处呢?当前 , 我国有希望能通过碳基芯片实现中国芯的弯道超车吗?
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近年来 , 我国一直都在寻找着能够独立自主生产芯片的途径 , 经过了长时间的探索 , 终于有了一个方向 , 那就是碳基材料 。 2016年 , 专注于碳基芯片研究的 , 北京大学教授彭练矛带领着研发小组 。
通过蒸发诱导自组装的方法 , 成功得到了符合标准的碳纳米管 , 这种碳纳米管可是生产碳基芯片的重要材料 , 突破了这个 , 那么未来无疑会大大加快我国碳基芯片的落地进程 。 而且 , 找到新材料 , 随着我国突破碳基芯片 。
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据说这种碳基芯片不仅仅功耗比当下的硅基芯片低 , 而且 , 碳基芯片虽然在性能上更加先进 , 但是在所需设备上 , 条件可是比硅基芯片更简单 。 听说十分先进的5纳米碳基芯片 , 也能用DUV光刻机生产 , 而这种DUV光刻机 , 我国其实也已经成功实现了国产化 。
随着我国突破了碳纳米管 , 找到了碳基芯片的新材料 , 未来自然也就不用进口光刻机了 。 那么 , 随着中国芯找到了新材料 , 随着中国芯找到了新方向 , 那么发展碳基芯片对我国而言究竟又会带来哪些影响呢?
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众所周知 , 5纳米的碳基芯片都能直接用DUV光刻机 , 我国在这类型的光刻机方面已经成功实现了国产化 。 如此 , 发展碳基芯片 , 无疑能使我国在芯片发展上面摆脱对阿斯麦而光刻机的依赖 。
在芯片生产上面 , 提高国产化标签 , 减轻对外依赖 , 对于我国未来半导体发展而言 , 可以减少卡脖子风险的出现 , 能够更好地促进我国芯片的发展和进步 。
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碳基芯片本身就比目前常见的硅基芯片在性能上更加强劲 , 功耗降低整整五十倍 , 我国一旦发展成功这样强劲的芯片 , 那么 , 在国际市场中 , 中国芯的市场竞争力无疑会大大加强 , 进而大大增加我国的经济利益 , 大大增强我国在国际半导体市场中的影响力 。
碳纳米管的成功落地 , 意味着我国在碳基芯片方面取得了巨大的成就 , 未来 , 我国未必就不能成功生产碳基芯片 , 而碳基芯片未来如果一旦生产成功 , 给我国带来的影响是不容忽视的 。 那么我国未来有没有希望能通过碳基芯片 , 实现中国芯的弯道超车呢?
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其实 , 我国未来未必有希望通过碳基芯片实现弯道超车 。 当下 , 在碳基芯片的研究领域 , 并不仅仅只有我国再做 , 美国等世界国家也是有入局的 , 在这一领域 , 里头的竞争非常激烈 , 毕竟全球国家都想要依靠这个碳基芯片 , 实现自身芯片的巨大的发展和进步