14家欧洲科技企业联合官宣，外媒：ASML的市场地位渐行渐远了在数字化时代全面铺开之后

在数字化时代全面铺开之后，工业生产对芯片的需求愈加依赖，面对消费者近乎苛刻的要求，芯片厂商只能对芯片工艺不断进行升级，可在整个过程当中可并没有那么的顺利。
在有限的面积内，能够塞进越多的晶体管，就意味着芯片的性能就越强大，摩尔定律的极限问题，也成为了当下半导体领域的困境，根据此前传出的消息，在芯片工艺达到2nm之后，想要再进一步几乎不可能了。

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但科技还要不断地进步，对于芯片性能的要求还在不断提高，因此包括台积电在内的芯片厂商，目前都在寻找切实可行的方案，而新材料的寻找，也被当成了最佳的方案，然而这一切对于ASML来说可就不妙了。
制造7nm及以下的芯片，就必须要用到EUV光刻机，虽然现阶段能够生产光刻机的厂商不少，但能够满足芯片生产需求的，却只有荷兰的ASML公司，特别是对于EUV光刻机而言！
，而其中最为核心的技术来自于老美，在含美技术占比上是最高的，外加上最大的工厂也转移到了美本土，因此ASML相当于已经失去了自主的运营权，在自由出货上受到了很大的限制。

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在有了中国市场的前车之鉴下，也让各国认清了美市场的嘴脸，指不定相关限制有一天会落到自己头上，芯片作为目前最重要的科技基础，对于每一个国家而言都是不可或缺的存在，目前各个国家也都启动了应对措施。

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在寻求技术突破的过程中，主要分为两个步骤去执行，其一就是加大对于光刻机领域的技术研发，其二就是研发可替代的新型芯片，目的同样是为了打破ASML公司的技术垄断，或许还能够实现对于摩尔定律极限的突破，这对人类科技的发展是具备有重大意义的。
除了国内的中科院之外，此前日企佳能就官宣了，之后将全面恢复对于光刻机技术的研发，而俄科研机构也宣布，将会利用X射线技术为基础，实现对于光刻机的制造，这么多国家相继入局，肯定是很快能够实现技术突破的。

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一旦光子芯片取得相应的突破，在制造生产过程当中，就就不需要用到尖端的EUV光刻机了，而此前国内的研究所，就提出了光子芯片可替代硅基芯片的概念，并且已经通过了相应的实验论证。
光子芯片的优势已经逐步展现了，利用光波为运算载体，相比于现阶段普遍采用的电子，在超高速度、超强的并行性、损耗率上都具备有一定的优势，而且还不用依赖晶体管的数量，这将是未来芯片发展很好的一个方向。

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随着欧洲企业的“PhoQuant”项目成立，光子芯片再度成为了热议的话题，而在这个项目当中，我们也已经申请了诸多的技术专利，因此在未来的国际合作当中不会再被动了，相关限制也起不到什么作用。

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而造成这一切因素的原因，就在于美对市场的“不公平”待遇，才导致诸多国际企业，要建立起独立于美技术之外的体系，那些美企已经赴美建厂的企业，终究只是一枚“棋子” ，在剩余价值被压榨完之后，也会随之被抛弃。