什么是光刻机干什么用的什么是光刻机 _生活百科

光刻机，又称对准曝光机、曝光系统、光刻系统等的掩模，是制造芯片的核心设备。它采用类似的照片打印技术，根据光线的曝光将掩膜版本上的详细图形打印到硅片上。光刻机的类型可分为接触曝光、接近曝光和投影曝光。

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什么是光刻机光刻机（lithography）又称：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似的照片打印技术，根据光线的曝光，将掩膜版上的细致图形打印在硅片上。光刻机通过一系列光源动能和形状控制手段，将光束散射到涂有线路图的掩模上，通过物镜补偿各种光学偏差，将线路图成比例缩小，然后映射到硅片上，再用化学方法显影，获得刻在硅片上的电路图。
光刻胶是半导体，面板，PCB 在其他领域生产和制造中的重要材料。光刻胶是由树脂、光敏剂、溶剂、光引发剂等组成的混合液体光敏材料。光刻胶的原理是利用光化学反应，通过光刻工艺将所需的小图形转移到加工衬底上，以实现所需图形或抗离子注入的效果。
曝光机是生产大型集成电路的关键设备。制造和维护必须是高光学和电子工业的基础，世界上只有少数制造商掌握。因此，曝光器通常很昂贵 3 千万至 5 亿美金。
光刻机的用途是什么？光刻机是芯片制造的关键设备之一，根据用途可分为几种，用于生产芯片；用于封装；用于封装； LED 制造业领域。用于生产芯片的光刻机是我国半导体设备制造的最大缺点，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
光刻机的工作原理【什么是光刻机干什么用的什么是光刻机】光刻机的工作原理是通过一系列光源动能和形状控制手段，将光束散射到线路图的掩模上，通过物镜补偿各种光学偏差，将线路图成比例降低，然后映射到硅片上。然后用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。一般光刻工艺应经过硅片表面清洗干燥、涂底、旋转光刻胶、软干燥、对准曝光、后干燥、显影、硬干燥、激光蚀刻等工艺。光刻机的制造和维护必须是光学和电子工业的高基础，因此，世界上只有少数厂家掌握。
光刻机的性能参数光刻机的重要性能参数包括：适用于基板的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方法、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
分辨率是描述光刻过程中可以实现的细线精度的一种方法。光刻的分辨率受到光源透射的限制，因此受到光源、光刻系统、光刻胶和工艺的限制。对准精度应为双层曝光时固体图案的精度等级。曝光方法分为接触式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外线、深紫外线和极紫外线区域，光源包括汞灯、准分子激光器等。光刻机归类光刻的本质是将临时电路结构复制到硅片上，这些结构首先以图形的形式制作在掩模板上。光源通过掩模将图形转移到硅片表面的感光膜上。光刻机根据是否有掩模可分为掩模光刻机和无掩模光刻机。
无掩模光刻机分为：离子束、激光、离子束直接光刻机；有掩模光刻机：接近、触摸、投影光刻机。高档投影光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机，分辨率一般在7纳米到几微米之间，高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，世界上有 1.2 一台1亿美元的光刻机。高端光刻机堪称当代光学工业之花，制造难度大，世界上只有少数企业可以制造。国际品牌主要是荷兰 ASML，日本 Nikon 和日本 Canon 三大品牌为主。

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