光刻机三巨头的殊途同归( 三 ) 本文来自微信公众号：半导体

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东芝存储器四日市工厂调整纳米压印半导体制造设备“FPA-1200NZ2C”
图源：佳能
在佳能开发人员首藤真一看来，这种纳米压印设备是一种将创造未来的设备。未来，半导体会变得更精细，不仅会被封装在智能手机中，未来还会被用作贴纸，比如贴在人体皮肤上或隐形眼镜上。他相信只有纳米压印方式才能以客户要求的成本和速度实现这一点。
从目前透露的消息来看，和佳能共同开发的NIL技术的铠侠已掌握NIL15nm的制程量产技术，目前正在进行15nm以下技术研发，预计2025年进一步达成。不过佳能方面还未透露出设备量产的消息，实用化的时期还不明确，我们可以期待下。
三、尼康， ArF液浸打磨
说完了佳能，再来聊聊尼康。尼康在上世纪末是当之无愧的光刻机巨头，从80年代后期至本世纪初，尼康光刻机市场占有率超50% ，代表着当时光刻机的最高水平。这点从尼康官网半导体光刻系统历史发展也可以看出， 1980年出货NSR-1010G（分辨率：1.0μm），从1984年开始，几乎每年都会出货至少1款光刻机。
到了1999年，除了推出世界第一台干式ArF扫描仪NSR-S302A（分辨率≦180nm）外，尼康还推出了NSR-SF100（分辨率≦400nm）；NSR-S204B（分辨率≦150nm）；NSR-2205i14E2（分辨率≦350nm）；NSR-S305B（分辨率≦110nm）四款设备，销售的半导体光刻系统数量达到6 ， 000台。

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图源：尼康
那时候尼康的光辉事迹密密麻麻可以写满了好几页，不过，和佳能一样，本世纪初的那场干湿路线之争成为了转折点。如今的尼康虽然凭借多年技术积累位居光刻机二线供应商地位，但份额已经极大的缩小了。 2021年度， Nikon光刻机业务营收约112亿元人民币，出货了29台集成电路用光刻机，较2020年减少4台。
目前，在光刻机技术方面，尼康主推ArF浸没式技术，大部分精力都在Arf和i－line光刻机领域。 ArF光刻机也就是DUV光刻机，光源波长达到193nm ，波长的限制使得DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。
不过这也说明了，相比佳能，尼康的光刻机更先进一点。虽然DUV光刻机也是ASML的专场，但尼康仍然有野心追赶ASML ，专注于研发ArF液浸。尼康官网提到下一代光刻系统是这么说的：随着小型化的进展，达到了阻止现有光刻技术处理较小尺寸的理论障碍，这个问题的解决方案是浸入式光刻技术，尼康将其整合到其半导体光刻系统中。
尼康常务执行董事滨谷正人曾断言， “ArF液浸作为尖端曝光装置使用的电路尺寸是主战场” 。 2018年，尼康推出了NSR-S635EArF浸没式扫描仪，该光刻机专为5nm工艺制程量产而开发，确保出色的聚焦稳定性并最大限度地减少缺陷以提高产量，以每小时高达275个晶圆的超高通量优化可负担性。

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图源：尼康
到了2021年10月，尼康宣布开发NSR-S635E进阶版——NSR-S636EArF浸没式扫描仪，将提供卓越的覆盖精度和超高吞吐量，以支持最关键的半导体设备的制造，预计将于2023年开始销售。虽然尼康并未公布S636E更多的参数，但是作为NSR-S635E进阶版，量产5nm芯片应该不在话下。
同佳能一样，在芯片热潮的带动下，尼康对光刻机业绩也给了很大的期望。今年3月，尼康发布了2022年度半导体曝光装置销量，预计将超过2019年度的业绩45台，将比2021年度的预测上增加13台以上，达近10年最高销量。此外，尼康今后将以物联网的发展为背景，建设半导体新工厂，预计到2024年度为止，销售台数都将保持稳定。