国产光刻机被拒之门外?荷兰ASML包揽全球62%份额,都卖给了谁?

文:小余
芯片作为现代工业粮食 , 重要性不言而喻 。 这也注定了 , 芯片工艺极难攻克 。 而芯片制造的整个过程包括芯片设计、晶片制作、封装制作、测试 , 其中芯片晶片制造过程尤为复杂 。 在这一过程中 , 光刻机是最关键的设备之一 , 也是最难攻克的设备 。
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全球有哪些国家可以制造光刻机?
答案可能会出乎一些人的意料 。 纵观全球 , 目前只有3个国家可以制造光刻机包括:荷兰、日本、中国 。 即使是美国、德国这样的工业强国也不具备这种机器的制造能力 。 不过 , 值得注意的是 , 我国暂时还无法制造高精度光刻机 。 能制造出高精度光刻机的国家也只有日本和荷兰 。
其中中企代表为上海微电子(SMEE) 。 目前上海微电子已经可以批量生产用于制造90nm芯片的光刻机了 , 这也是除了荷兰ASML、日本尼康、佳能之外 , 比较先进的水平 。 但要知道 , 荷兰的ASML已经可以制造出7nm光刻机了 , 差距无疑非常明显 。
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5月10日 , 国有控制的芯片制造厂商上海积塔半导体公示了多项设备的招标结果 。 中标结果显示 , 3台光刻机都被ASML拿下 , 没有一家国产厂商中标 。 结果既出乎意料 , 也不出乎意料 。 作为拥有全球最先进光刻机公司 , 拿下订单无可厚非 。
与此同时 , 我们也要知道此次积塔半导体对外招标采购的芯片生产设备 , 主要生产的是功率芯片 。 而这一类芯片对于光刻机制程工艺的要求其实并不高 , 过去 , 一般90nm-350nm就可以满足需要 , 属于后道光刻机 。 也就是说国内光刻机厂商上海微电子在工艺上是可以达到这一要求的 。
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国产光刻机为何会被拒之门外?
至于上海微电子为何落选 , 一方面也是因为ASML在光刻机方面的硬实力 。 如上所述 , 我国的光刻机制造技术 , 与荷兰的ASML差距较大 。 众所周知 , 芯片整个生产过程是需要大量物力、财力、人力投入的 。 一旦出错 , 代价不菲 。 因此 , 高塔半导体选择阿斯麦尔 , 或许也是因为没有试错的胆量和资本 , 也是无可厚非的 。
其次 , 自去年11月 , ASML就做了一个公开声明 , 主动与中国企业沟通 , 希望将DUV低价出售给中国企业 。 想想看 , 就连非常重要的DUV光刻机都可以低价出售 , 更不用说处于次要地位的光刻机了 。 所以 , 国产光刻机这次失败的原因也有可能是ASML的光刻机打了价格牌 。
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不过 , 无论是什么原因 , 结果也都无法改变 。 而此次招标也暴露了国产光刻机与ASML光刻机之间的差距 , 这意味着国产光刻机的发展还有很长的路要走 , 不仅是DUV和EUV这些前道光刻机 , 还有那些已经实现国产化的后道光刻机 。 我们在进步 , 但这并不意味着ASML就在停滞不前 。
ASML究竟有多强?
目前ASML公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场 , 主要是前道EUV光刻机 。 其难度系数大 , 造价极高 , 暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌 。 5月20日消息 , ASML公司正在研发制造新一代极紫外光线(EUV)光刻机 。
将用于生产下一代芯片 , 芯片的应用范围可以覆盖手机、汽车、AI等等 。 预计每台售价约4亿美元 , 或将在2023年上半年完成制造 , 并有望在2025年用于芯片供应商 。 显然 , ASML的实力不仅强劲而且还在不断进步 。