英特尔计划在2025年重新夺回半导体业务的领导地位( 二 )
这也是英特尔今天发布的最重要的公告 , 从技术上讲 , 英特尔将推出自2011年FinFET以来的第一个新晶体管架构 , 称为“RibbonFET” 。
新架构将标志着英特尔的第一个环栅晶体管 , 这是该公司的一项全新的晶体管技术 , 承诺更高的晶体管密度和更小的尺寸 。
此外 , 20A将引入“PowerVia” , 这是一项新技术 , 允许从芯片背面为晶片供电 , 而不需要将电源四舍五入到正面 。
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标题中的“20A”旨在唤起半导体设计的“埃时代”——埃是一种小于纳米的测量单位 。 (20?=2nm , 尽管与上面其他更名的英特尔名称一样 , 英特尔20A并不是指产品本身的特定测量值 。 )
英特尔的20A预计要到2024年才会量产 , 而且与英特尔3一样 , 它还没有任何正式宣布的发布日期或产品 。
英特尔18A是英特尔未来路线图中最远的一块 , 将采用英特尔的第二代RibbotFET技术 , 以实现“晶体管性能的又一次重大飞跃” 。 英特尔表示 , 英特尔18A正处于“2025年初”的开发阶段 , 并预计这一代技术将重新确立其半导体领先地位 。
除了所有的工艺路线图新闻外 , 英特尔还宣布了其Foveros芯片堆叠封装技术的两项重大更新(其中第二代将于2023年在英特尔4的MeteorLake中首次亮相 。 )Foveros芯片堆叠结合了多种硬件将元素集成到单个芯片中 , 例如英特尔的Lakefield芯片 , 它将五个CPU内核、一个集成GPU和DRAM堆放在一个紧凑的堆栈中 , 与传统设计相比 , 可以节省内部空间 。
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FoverosOmni将通过更轻松地混合和匹配瓷砖 , 而不管它们的具体尺寸如何——例如 , 允许堆叠芯片中的底部瓷砖小于顶部瓷砖 , 从而允许更多种类的堆叠筹码 。
FoverosDirect将允许组件之间直接铜对铜键合 , 从而降低电阻并减少凸点间距 。 两种新的Foveros技术都计划于2023年投入生产 。
英特尔的新名字可以帮助公司更准确地recontextualize其当前和未来产品针对其的竞争 。 即使承认英特尔7与其他代工厂的7nm产品相当 , 但这些代工厂已经超越了他们的7nm芯片和5nm硬件 。
这意味着依赖这些外部代工厂的公司——比如苹果、AMD、英伟达、高通 , 以及几乎所有其他主要科技公司——仍然可以获得比英特尔最好的产品更先进的芯片 。
例如 , 苹果最高级的M1Mac已经使用了台积电的5nm芯片——并且轻松超过了英特尔的同类产品 。
AMD传闻最早也将在2022年开发5nmZen4处理器 , 这可能会为英特尔提供同样令人担忧的竞争 , 以应对其已经逐渐蚕食的竞争对手 。
即使其路线图有雄心勃勃的年度节奏 , 英特尔仍在落后 。 它预计要到2024年的英特尔20A才能完全赶上其他行业 。
而且它预计要到2025年才能凭借英特尔18A重新夺回半导体业务的领导地位 。 所有这些都假设英特尔不会再遇到任何延迟或制造障碍 , 就像那些阻碍其10纳米和7纳米工艺的障碍(这可以说是让公司处于目前的境地) 。
然而 , 经过多年的挫折 , 很明显重振的英特尔不会不战而败 。
但未来几年还需要看它的努力是否足够 。
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