光刻机|我国不断突破核心技术，多久能造出高端光刻机？答案或许出乎意料阿斯麦尔

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在去年的科技大会上， TCL创始人李东升在接受媒体采访时表示，我国将在五年内解决高端新品短缺的问题。李东生的讲话，在过去的一年里，引起了网友们的广泛关注与讨论，不少网友认为，五年之内，我国就会造出能够制造高端芯片的EUV光刻机。

近两三年来，在中国科学家的努力下，我国突破了不少EUV光刻核心技术，在一些媒体的炒作下，确实给人一种国产EUV光刻机随时都可以完成研发工作，独自造出EUV光刻机。那么，问题来了，即便是我国在未来的五年内完成了所有EUV光刻机的研发工作，我们短时间内就能造出来吗？

答案是肯定的，即便是我们完成了所有的EUV光刻技术研发工作，短时间内也无法造出国产EUV光刻机。
【光刻机|我国不断突破核心技术，多久能造出高端光刻机？答案或许出乎意料】几年前，我国科研人员到荷兰ASML公司学习时，该公司的一位高管曾趾高气扬地表示：即便是中国拿到了EUV光刻机图纸，也造不出来！ASML公司高管的话虽然听起来让我们很不爽，但说得并不无道理！

笔者说出这样的观点，或许会遭到一些人的反驳、批评，这些人会说：“中国造个原子弹就如同张飞吃豆芽，小菜一碟，造一个光刻机又有何难？”我并不认为这个观点错误的， EUV光刻机即便是再高端、精密，也不是神造的，中国科学家完全有能力克服一切困难，造出属于我们自己的EUV光刻机，但从ASML公司制造的EUV光刻机来看，我们要造出国产EUV光刻机，可能会需要一个很长的时间，而我国科技的伟大复兴，恰恰最缺的就是时间。

据公开资料显示， ASML公司制造EUV光刻机所需的10余万件元器件来自世界上5000多家企业，而且这些企业的技术均达到了各自细分领域的顶级水准，部分企业为了能够制造出一个完美的EUV光刻机元器件，需要耗费十年的时间。值得一提的是，这些企业，大部分属于西方企业。
几十年前，以老美为首的西方国家为了遏制我国科技的发展，签订了《瓦森纳协定》，明文禁止协定缔约国的企业向我国出售一切高端技术和元器件。从这不难看出，国产EUV光刻机的研制工作，得不到任何外援，只能依靠我们自己！

EUV光刻机的制造难度非常大，中国院士吴汉明也曾发出了这样的感慨：EUV光刻机是全人类智慧的结晶，仅凭一个国家的力量很难造得出来！
近年来，我国科技取得了巨大突破，在多个领域实现了“弯道超车” ，从一个跟随者变成了引领者，这样以老美为首的西方国家很是不安，开始利用大量卑鄙手段打压中企，其中，芯片封锁成为了它们此刻打压中企的最佳手段。

所以，为了实现伟大的民族复兴梦，光刻机即便是再难造，我们也一定要克服一切困难，造出属于我们自己的EUV光刻机，打破美芯的垄断，让我国坚持独立自主发展路线的企业再无后顾之忧，以巨大优势击败竞争对手！