asml|问题越来越严重，ASML携专利赴美，我们对EUV的突破已毫无意义？光刻机|芯片|网络安全

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为了实现芯片的国产化，中科院、清北高校等科研机构纷纷跑步入场，并成立了专项技术攻关小组，对EUV光刻机这类高端芯片制造的核心设备进行研发。尽管至今还没有独自造出EUV光刻机，但值得肯定的是，在该设备技术的研发上，我们已取得了巨大的进展以及实质性的成果。

随着央媒传出国内首台高能同步辐射光源正式落地的喜讯后， EUV的三大核心技术“双工件台系统、光源、光学镜头” ，均全部破冰。
突破EUV的关键技术本是振奋人心的好消息，因为这意味着我们距离制造出EUV光刻机更近了一步，实现“中国芯”的崛起更是指日可待。

然而，没想到的是，先后五次示好我国市场的ASML ，再度“变脸” ，决定前往美国东南部的凤凰城，与台积电、英特尔聚首，共同帮老美提升高精度芯片制造水平。
要知道，荷兰ASML是全球唯一能生产EUV设备的厂商，在被老美限制对华出口的情况下，无法卖给我们价值1.2亿美元EUV光刻机的ASML ，曾多次向美国政府表达不满，同时还声称要加强与中企的合作，非常乐意提供技术设备支持，帮中国打造完整的半导体产业链。

不曾料到反转会来得这么快， ASML赴美，意味着它已经站在了我们的对立面。
未来我国市场想要进口到EUV几乎已无可能，更严重的问题是， ASML的这个决定，直接影响到了我们对高精度光刻设备研发的积极性。
事情是这样的，据公开资料显示， ASML近两年在我国紧迫密集地申请了约3千项光刻专利，如果与我国企业市场合作，那么肯定会极大的推动我国光刻技术的进步。但是它却与老美联手，这3千项专利则掉转箭头，成了围堵我国在光刻领域突破的壁垒。

这并非危言耸听，专利这个词正是由美国通信巨头高通所提出的，而高通利用它通信领域的专利优势，至今还每年都在向全球所有的手机厂商收取着巨额的专利费。而且，还曾多次利用专利，逼迫下游手机厂商采用高通芯片，否则就以拒绝授权的方式进行打压。
如今ASML携专利赴美，极有可能会给我们造成同样的困扰，导致即便我们制造出了EUV光刻机，但没有它们的授权，却仍然无法使用。
【asml|问题越来越严重，ASML携专利赴美，我们对EUV的突破已毫无意义？】这是否意味着，我们突破EUV核心技术将变得毫无意义？

答案很显然：绝对不会。
首先，只有保持对EUV光刻机的研发力度，才有可能创新出有别于ASML的光刻新专利，届时，才有可能与它们进行“专利交叉授权使用” 。
而ASML与老美之所以设置这道光刻壁垒，就是想让我们知难而退，永远在光刻领域受到钳制，我们若因光刻壁垒而放弃研发，则正中了对手的圈套。
其次， EUV作为芯片制造的核心设备，它所涵盖的三大核心尖端技术，在很多领域都有广泛的应用，并不单单局限于光刻机。因此，我们对EUV设备的技术突破，即便真的无法用在EUV光刻机上，但也绝对可以在其他更多的应用场景中起到作用。

最后，研发出EUV光刻设备，将会大幅提升国内半导体市场的士气，也能让我们更有信心去赢下与老美的这场科技博弈。