华为鸿蒙系统|EUV光刻机事件重演,这次的目标是14nm芯片设备

华为鸿蒙系统|EUV光刻机事件重演,这次的目标是14nm芯片设备

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【华为鸿蒙系统|EUV光刻机事件重演,这次的目标是14nm芯片设备】华为鸿蒙系统|EUV光刻机事件重演,这次的目标是14nm芯片设备

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美国的规则 , 就是没有规则!
近年 , 在芯片领域 , 美国定下的各种规则更改的是最频繁的 。 尤其是为了断供华为芯片和国产科技的发展 , 美国更改的规则更是不计其数 。
比如 , 从全球市场下手 , 不允许荷兰的ASML公司卖EUV光刻机给我国 , 然后规定美国的芯片公司不能随便卖5G芯片给特定用户 。

EUV光刻机是制造7nm精度以下级别芯片的设备 , 是生产高端芯片必须的设备 , 禁止荷兰的ASML公司出售光刻机 , 为的就是不让华为等科技公司用上最先进的芯片 。 在华为因此蒙受巨大损失后 , 美国禁止售卖EUV光刻机的事件再次重演 , 美再次宣布 , 能生产14nm精度芯片的光刻机 , 也要限制 。
简单来说 , 限制我国科技公司7nm芯片的来源 , 已经不能满足其目的了 , 要更进一步 , 把落后7nm芯片的14nm芯片再次限制住 。 方法就是限制出售制造14nm芯片的光刻机 , 没有光刻机 , 我国科技企业就没有14nm芯片可以用 。
这件事是为什么呢?要知道美国也要用到我国的蚀刻机 , 难道美国不怕被反将一军吗?
这就不提得不提到整个芯片制造行业 , 芯片的制造比我们想象的要复杂得多 。 像板凳、铁锅 , 我们自己村里就能修补 , 做出来;更好的家具 , 则需要1个乡镇的工匠就能做出来;大的钢铁厂 , 需要1个县城或大城市才有;飞机大炮则需要1个国家才能造出来;芯片这种东西 , 尤其是最顶尖的芯片 , 就是最牛的美国 , 也是靠全球很多国家1起造出来的 。

芯片制造的难点 , 就是需要用到大量的技术 , 人员和材料 。 这些东西都是很难1个国家就全有的 , 再加上芯片需要光刻机、离子注入机、抛光机等机器 , 再加上繁琐的制造步骤 , 这就造成了技术壁垒 。 这些需要资源、时间、财力和人员的积累 , 才能打破 。
美国现在玩的就是规则 , 卡住荷兰ASML公司的光刻机 , 这样就能卡住芯片的脖子 。 它想让谁有 , 谁就有 , 谁没有 , 谁就没有 , 最起码是现在 , 或者未来几年没有 。
现在我们用到的手机 , 7nm、5nm以下精度的芯片 , 都是美国的 , 比如安卓手机的芯片是美国高通公司的 , 苹果芯片更不必多说 。 美国的这些产品 , 用着最好的芯片 , 把手机、电脑、汽车卖到世界各地 , 赚了最多的钱 。
而那些没有好的芯片的公司 , 就只能退而求其次 , 用性能更差的14nm的芯片 , 这些芯片性能较低 , 但还能用 。 但美国玩的就是规则 , 在看到7nm芯片的效果不错后 , 更进一步 , 能生产14nm芯片的光刻机 , 也被限制出售了 。
美媒的消息表示 , 美国的科磊和泛林2家公司表示已经收到了指示 , 不能再随意出售制造14nm芯片的光刻机 , 除非获得允许 。 全球掌握成熟的14nm光刻机技术的公司屈指可数 , 科磊和泛林这2家公司就在其中 。

美国进一步限制光刻机的迹象早已显露 , 美国要求ASML限制7nm光刻机之后 , 就和ASML多次讨论过限制70nm光刻机的出售 。
如果这个目的再达成的话 , 无疑会掀起一股巨浪 , 毕竟规则虽然可以改变 , 但客观的规律还是存在的 , 限制光刻机 , 进而限制芯片 , 这套操作 , 本质上还是七伤拳 。 这一套操作 , 只会改变暂时的芯片现状 , 国内科技公司的发展不会被阻断 , 只是暂缓而已 。