半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

文章图片

半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

文章图片

半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

文章图片

半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

文章图片

半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破

文章图片


在芯片生产制造行业 , 半导体设备是必不可少的 , 除了大家熟悉的光刻机 , 还包括清洗机、离子注入机、抛光机、清洗机等等半导体设备都是这个市场的重要组成部分 。
大家只知道ASML这家半导体设备公司制造的光刻机世界领先 , 可以生产7nm及以下的EUV光刻机 。
但其实国产半导体设备也有很大的布局力度 , 并且再次传来了突破的好消息 。 这次国产半导体设备有怎样的突破进展呢?国产半导体设备市场又具备怎样的潜力?

国产半导体设备再次突破芯片制造是一个非常复杂的工业流程 , 如果说芯片设计看重的是工业软件 , 芯片架构技术的话 , 那么芯片制造就需要对半导体设备市场有很高的把控要求了 。
芯片制造过程中遇上的光刻、刻蚀、离子注入和清洗工艺等等都有对应的半导体设备负责生产 。 其中最受瞩目的可能就是光刻步骤对应的光刻机 。

因为国际市场的原因 , 导致很多人关注到ASML光刻机的供应情况 , 这家公司的EUV光刻机不能向大陆客户出货 , 原因大家都明白 。 虽然光刻机很重要 , 但也只是芯片制造过程中的一部分 。
而在其余的半导体设备领域 , 国产一直在努力 , 并取得了许多进展突破 。 比如至纯科技的清洗设备完成了28nm认证 , 还有中国电科旗下的离子注入机实现全谱系的国产化突破 , 可对应28nm制程 。

这些国产半导体设备的突破案例比比皆是 , 但也许有人表示这才28nm制程 , 又不是最先进的工艺 。 何止成熟工艺 , 国产半导体再次突破 , 这次是5nm 。
据4月7日消息显示 , 河南研究院研制出全自动12寸晶圆激光开槽设备 , 这台设备支持5nm DBG工艺 , TAIKO超薄环切和激光开槽等功能 。

【半导体|5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破】从介绍中大致可以了解到 , 这台半导体设备采用激光技术 , 并且支持各种类型的脉宽激光器 。
此次取得研究突破的生产团队 , 为国产开槽设备能够在5nm制程工艺范围内实现良好的超薄工艺处理能力 , 为国产半导体设备市场积累更高端 , 更自主的产业化优势 。
国产半导体设备市场需要不断积累这类研究成果 , 打造出自主可控的生产线 。 5nm工艺已经是非常高端的技术了 , 目前为止国产半导体设备能够涉猎到5nm工艺程度的依然有限 。

除了此次取得突破的全自动12寸晶圆激光开槽设备 , 也包括中微半导体公司的刻蚀机设备 。 更多的清洗设备 , 物理薄膜沉积以及光刻机还处在提升国产化率阶段 , 或者加速探索更高端先进的工艺技术 。 做到5nm的无一不是行业翘楚的企业或顶级研究机构 。
国产半导体设备市场有何潜力?国外发展芯片集成电路已有半个世纪以上的历史 , 英特尔 , 英伟达等老牌厂商是各自CPU , GPU领域的鼻祖 。
而这些世界领先的巨头相互扶持 , 打造行业超前的半导体设备 。 比如ASML生产的EUV光刻机就是来自世界各国顶尖科技的集合 , 各类领先的半导体设备均出自国外供应商之手 。