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芯片已经成为当下最主要的元器件之一 , 而台积电又是全球芯片制造技术最先进的厂商 , 于是 , 很多国家和地区都主动邀请台积电建厂 。
芯片等规则被修改后 , 台积电已经宣布在包含美日等地区建设6座工厂 , 扩大芯片产能 。
结果进入2022年后 , 台积电就不断传来事关建厂的消息 。
例如 , 台积电称在美建厂成本太高 , 120亿美元的投资根本不够 , 选择在美建厂是我们太天真了 。
台积电表示美补贴的520亿的资金 , 不应该只给本土芯片企业 , 也应该给那些在本土建厂的国外企业 。
从台积电的表态上看 , 台积电在美建厂并非主动意愿 。 如今 , 台积电又官宣两个新消息 , 关键是信息量较大 。
第一个消息 , 台积电N3工艺将于2022年内量产 , 后续还有N3E、N3P、N3X 等 , N2(2nm)工艺将于2025年量产 。
其中 , 2nm芯片将会采用环绕栅极晶体管 , 在相同功耗下 , N2比N3E速度快10~15%;相同速度下 , 功耗降低25~30% , 密度也将提升10% 。
【锐龙|台积电官宣两个新消息,信息量较大】据了解 , 这已经是台积电第三次提到2nm芯片 , 同时 , 台积电也已经正式开建2nm芯片工厂 , 这意味着台积电有望在2024年试产 , 2025年正式量产基本没问题 。
第二个消息 , ASML出货量一半的EUV光刻机都安装到了台积电 , 凭借EUV光刻机的优势 , 台积电先进制程的芯片产能高、良品率也高 。
据悉 , ASML已经推出了升级版的EUV光刻机 , NA值为0.55 , 但台积电却没有大量购买NA 0.55的EUV光刻机 , 依旧采用使用NA 0.33的EUV光刻机 。
如今 , 台积电正式对外透露 , 将会在2024年正式拥有High-NA EUV 光刻机 , 该型号的光刻机将会把芯片制程缩小至2nm以下 。
其实 , ASML之前也曾表示 , 全新一代High-NA EUV 光刻机的原型机将会在2023年完成 , 将会在2024年交付厂商测试 , 2025年就能够规模上市 。
可以说 , 台积电宣布的这两个消息 , 透露了很大的信息 。
因为台积电在美建设5nm芯片生产线 , 2024年在美量产5nm芯片 , 但该技术与台积电最先进的技术相比 , 仍落后两代左右 。
毕竟 , 台积电2024年就将试产2nm制程的芯片 , 2025年正式量产 , 而5nm到2nm还隔着3nm工艺等 。
从这一点来看 , 台积电打心底就不想给美最先进的芯片制造技术 。
另外 , 美日等已经正式联合秘密研发2nm制程的芯片 , 并计划在未来实现更多2nm芯片在本土生产制造 , 尽管如此 , 但对台积电而言 , 根本不会带来影响 。
原因是台积电已经确定了2nm芯片方向 , 工厂也已经正式启动建设 , 2024年就能够试生产 , 这意味着台积电基本上掌握了2nm芯片的相关制造技术等 。
最主要的是 , 台积电的芯片制造技术之所以领先 , 除了自身研发投资高、制造技术先进外 。
也得益于ASML优先将先进的光刻机供货给台积电 , EUV光刻机就是最好的例子 。
如今 , 台积电再次透露 , 在全新一代High-NA EUV 光刻机上 , 台积电将有优先供货权 , 这意味着在先进光刻机等设备上台积电仍将领先三星等厂商 。
也就是说 , 在2nm及以下制程的芯片上 , 台积电仍持续领先 , 不仅产能会领先于三星等厂商 , 良品率也将高于三星等厂商 , 毕竟 , 设备优势是无法改变的 。
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