阿斯麦尔|国产光刻机关键技术“破冰”，ASML不想看到的局面发生光刻机|破冰

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ASML多次表态，希望能争取自由出货，让美国尽早回头改正错误。否则一旦客户自己掌握光刻机技术，到时候ASML的光刻机就不好卖了。
而ASML不想看到的局面发生了，国产光刻机关键技术“破冰” ，中企公开了一项事关EUV光刻机的专利技术。这项技术“破冰”说明了什么？ASML呼吁自由出货，美国能听进去吗？

国产光刻机技术“破冰”ASML对掌握EUV公开量产能力显得十分自信，一度表示哪怕公开图纸，中国也造不出来。
其实ASML并没有夸大这句话，造EUV光刻机的难度的确很高，没有全球化产业链的支持，可能连门槛都迈不过。但随着时间的推移， ASML变得没那么自信了，改口表示物理规则在中国是一样的，永远别说永远，他们一定会去尝试的。
ASML这样的态度相较以前完全不同，以前是骄傲和自信，现在是谦和与担忧。

其实可以理解ASML的态度变化，能够量产EUV光刻机的确值得骄傲，全球范围内只有ASML一家公司能做到，也确实有自信的底气。但是光刻机造出来是需要卖的，不管是EUV光刻机还是DUV光刻机，如果卖不出去也没用。
然后美国制定的规则让ASML无法顺利在大陆做EUV光刻机的生意，所以为了保障DUV光刻机在中国大陆的市场， ASML不再摆架子，表示会加快中国市场布局，还强调DUV光刻机是可以自由出货的。

除此之外， ASML还夹杂着担忧的情绪。毕竟一旦中国大陆取得最终的突破，以后ASML就算获得出货许可，也不可能获得大量订单。
这样的局面显然不是ASML希望看见的。可越是如此， ASML不想看到的局面越容易发生，因为中企公布了一项专利，实现国产光刻机的关键技术“破冰” 。
公开信息显示，上海传芯半导体公布了一项名为“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”的专利技术，这项专利对提高光刻机分辨率和对比度，以及简化光刻工艺有帮助。

这项技术“破冰”说明了事在人为，有一项技术突破后就会有第二项，第三项，国外能实现的技术，相信国内也可以。别看EUV光刻机被过度神话，其实也被一件件技术产品拼装起来的，在众多的专利支持下，完成最后一块拼图，实现量产。
ASML对专利是十分重视的，也时刻关注中企在这方面的积累布局。有关注行业动态的人或许会知道，今年2月份， ASML指控中国企业东方晶源可能销售侵权专利的产品，要求客户放弃与这家公司的合作。

但东方晶源否认侵权，其拥有完备的知识产权体系。从这一案例可以得知， ASML担心别的企业在核心技术上取得突破，在未来存在动摇自身地位的可能性。
ASML呼吁自由出货，美国能听进去吗？或许ASML知道无法阻止这一切的发展，是否侵权也不是ASML说了算的，所以ASML采取的策略是加大出货量，劝诫美国放开自由出货。试想一下，若生产线都采用了ASML的光刻机，以后自己的设备取得突破后，又能获得多少订单呢？