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一个好消息 , 国产光刻机又有新的重大突破 , 一项关键的核心技术即将被解决 , 我们距离自己的EUV光刻机又近了一步 。 也怪不得ASML现在越来越着急了 , 我们所突破的光刻机技术越来越多 , 核心技术也有所进展 , 虽然目前对ASML的并没有多大威胁 。
但随着时间流逝 , ASML已经感觉到越来越沉重的压力了 。
ASML的着急
前几年还在说就算给我们图纸也造不出来光刻机的ASML , 今年却一反常态 , 对我们开始玩起了“倾销” 。 数据显示 , 今年第一季度 , ASML向我们出口光刻机数量21台 , 占到其总销量的34% , 我们也首次成为了ASML的最大出货市场 。
过去 , ASML向DL出货的光刻机数量总共也就50多台 , 可以说是相当“抠门” 。 结果今年光是第一季度就出货21台 , 这是想开了?不 , 无事献殷勤 , 必然是没安好心 。
ASML向我们出售的都是老旧型号的DUV光刻机 , 要么是我们能造的 , 要么是我们很快就能造的那种 。 ASML选择这个时候出售 , 其实就是在变相打压国产光刻机 。
除了向我们大量出售DUV光刻机之外 , ASML还决定扩大国内的研发中心 , 计划增加200名研发人员 , 并还要建造维修中心 。 这个投资力度说大不大 , 但说小也不小 , 实际上就是想凭借自己的优势把国内的光刻机扼杀在摇篮中 。
国产光刻机再突破 , 这次是透镜
虽然ASML试图在国内找回自己的地位 , 但是我们对此并不买单 , 毕竟上过的当已经好几回了 。 这一次 , 光刻机自主化势在必得 , 国内诸多大学和研究院都在为此而努力 。 并且 , 我们已经取得了很多的突破 , 相较于过去 , 国产光刻机早已今非昔比 。
随着时间流失 , DUV光刻机对我们而言将不再是挑战 , 接下了EUV光刻机才是我们攻克的重点 。 EUV光刻机是制造业的皇冠 , 集合了西方技术结晶 , 零件达到十万之多 。 目前 , 世界上也只有EUV光刻机 。
我们要突破EUV光刻机 , 其三大核心就绕不过去 , 分别是光学系统、光学镜头和双工作台系统 。
而这一次我们突破的正是光学系统的部分 。 来自港城大学电机工程系的蔡定平教授团队 , 在Science Advances发表了一篇名为《真空紫外非线性超构透镜》的文章 , 其中所记载的新型超构透镜 , 是我们突破光刻机又一大技术门槛的希望所在 。
EUV光刻机的光源是极紫外光 , 所以其实际上叫做极紫外线光刻机 。 而蔡定平教授团队研发的新型真空紫外非线性超构透镜 , 能够产生和聚焦极紫外光 , 并能够将波长395nm转化为197nm。 聚焦光点的功率密度比超构透镜高了21倍 。
据悉 , 这一突破能够应用于EUV光刻机之中 , 帮助国产光刻机突破技术瓶颈 。 并且 , 这一技术还属于EUV光刻机的核心技术 , 对实现EUV光刻机自主有重大意义 。
总结
【Python|光刻机最重要的核心技术被突破?怪不得ASML这么急】可以发现 , 虽然EUV光刻机号称制造业的皇冠 , 但其并不是完全不可突破 。 至少 , 我们已经突破了很多技术 , 其中还包括最核心的那部分 。 “只要功夫深 , 铁杵也能磨成针” , 相信EUV光刻机自主早晚能够实现自主 。
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