阿斯麦尔|中企公开EUV光刻机专利，现在明白了，为何ASML着急出货光刻机|极紫外光刻

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在全球光刻机领域， ASML公司的地位是非常高的。除了ASML之外，没有第二家公司可生产EUV光刻机。哪怕ASML量产EUV光刻机已有十多年，也少有企业跨越成功量产EUV光刻机的天堑。
但是其它国家并没有放弃对EUV技术的研发。而中企传来好消息，公开了一项EUV光刻机专利。联系到ASML加大对中国大陆市场的出货速度，现在明白了， ASML为何着急出货了。
那么中企公布了怎样的EUV专利呢？ASML着急出货有用吗？

中企公布新专利，事关EUV光刻
ASML能成为世界上最大的光刻机厂商，很大程度都是因为掌握EUV光刻机量产能力。放眼全世界，有多少光刻机巨头试图攻克EUV光刻机量产，也无法成功。
实际上ASML也不是独立量产EUV光刻机的，因为得到了美国、英国、日本、德国等国家的顶级科技支持，在这些国家的参与下，为ASML提供光源设备、真空腔体、光刻胶材料以及光学镜头等等。
EUV光刻机的核心四大件没有一件是ASML自己的，甚至ASML自己的技术只占EUV光刻机的10% ，其余的90%技术零部件依赖进口。

这足以证明想要造出EUV光刻机有多么困难，这背后有多少国家，多少科研机构付出了难以想象的努力。
为什么别的国家企业难以造出EUV光刻机呢？除了不具备整合全球化供应链资源的条件之外，最关键的是无法绕开层层包裹的专利体系。
从EUV光刻机的硬件设施，到软件平台，几乎每一项技术的背后，都是有专利作为支撑的。如果有别的厂商触及专利，容易被起诉专利侵权。若坐实专利侵权，轻则赔偿，重则影响整个项目。

所以掌握自主知识产权是非常重要的，而中企就公开了一份EUV光刻机专利，引人注目。
根据国家知识产权官网公布的信息显示，传芯半导体公开了一项专利，名为“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机” ，该专利可用于EUV光刻，并且可以提高光刻机的分辨率和对比度，简化光刻工艺。

由于EUV光刻机涉及的零部件太多，专利体系太复杂，所以能在EUV光刻领域取得专利突破，其实是不容易的。
别看ASML能量产EUV光刻机，其实说得不好听一些， ASML也属于“组装厂” 。只是具备整合全球化供应链技术的能力，能够在众多国家的扶持下，成功打造出顶级的EUV光刻机。这也因为如此， ASML在EUV光刻机的出货规则上，没有太多的话语权。

ASML着急出货，有用吗？
站在ASML的立场，肯定是希望实现EUV光刻机自由出货的。没有人会和钱过不去， ASML也是如此。
该公司作为半导体设备供应商，对于研发投入是有一定要求的。如果研发投入太少，就很难维持技术领先优势。万一被其它光刻机厂商率先攻克核心技术，掌握知识专利产权，那ASML就容易陷入被动。
因此为了保持技术领先， ASML需要赚更多的钱，来维持研发投入。可问题是美国把ASML的财路断了不少， EUV光刻机本可以在中国大陆市场获得一些订单，结果ASML无法做这部分的生意。