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可能很多朋友并不了解 ， 芯片产业发展的这几十年间 ， 发生了很多格局上的变化 ， 例如最初的芯片设计 ， 是需要EDA工具的 ， 所以最初EDA工具提供商只是一个边缘化的存在 ， 但是随着芯片集成度的提升 ， EDA工具已经成了可谓是最上游的企业 ， 没有EDA工具 ， 芯片研发就几乎寸步难行 。

但很快芯片制造的重要性开始凸显 ， 直到进入到先进工艺 ， 芯片制造也开始进入芯片产业的中心地带 ， 而到了7纳米工艺 ， 芯片制造设备和材料 ， 也开始进入中心 ， 现在的先进封装技术 ， 则到了这个阶段 。
上面我们提到的芯片制造设备和材料 ， 就包括光刻机和光刻胶 ， 没有质量上乘的光刻胶 ， 芯片也无法完成制造 ， 而光刻胶的使用还是光刻机使用的前一道程序 ， 光刻胶的质量 ， 也直接决定了光刻机曝光后的芯片质量 ， 所以光刻机虽然研发难度很高 ， 可光刻胶也是同样如此 。
根据媒体报道 ， 我国光刻胶企业南大光电方面对外表示 ， 公司的ARF光刻胶产品已经通过两家企业的验证 ， 分别是一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业 ， ARF光刻胶 ， 也就是我们所说的“DUV光刻胶” ， 即DUV光刻机所需要用到的光刻胶 。

该光刻胶可以直接支持到7纳米工艺芯片的制造 ， 而7纳米也是DUV光刻机所被应用的极限工艺 ， 所以我们可以看出 ， 在ARF光刻胶上 ， 我们已经实现了全工艺覆盖的国产化 ， 打通了DUV光刻机所需光刻胶的通路 。
从历史发展上来看 ， 光刻胶提前做好了技术铺垫 ， 那么后续所对应的光刻机的出现就不远了 ， 实际上 ， 我们国产28纳米光刻机 ， 之前就已经有了相关可喜的进展 ， 主要是来自国望光学 。
国望光学是我们国产光刻机在曝光系统上的供应商 ， 因为我们现在的国产光刻机已经做到了90纳米 ， 所以光源的问题已经解决 ， 另一个关键点就是曝光系统 ， 而今年第一季度 ， 国望光学方面先后对洁净室和制造设备方面发出了招标 ， 并表示将会在该生产基地提供28纳米及以下工艺的产品 。

这意味着 ， 设备导入阶段就会很快到来 ， 我们尚且先不用关心何时会量产 ， 但基本可以确定 ， 我们已经掌握了28纳米曝光系统的技术 ， 现在的工作就是为规模量产做准备 。 以台积电在美建设的5纳米工厂为例 ， 其将会12月份进行设备导入 ， 2024年实现量产 。
所以这样对比来看 ， 国望光学走向量产已经指日可待 ， 这也与我们上面提到的 ， 光刻胶之后就是光刻机的历史发展规律相吻合 ， 因此说ASML继续供货做对了 ， 之前老美方面要求ASML在禁止供应EUV光刻机后 ， 也要禁止供应DUV光刻机 ， 遭到了ASML的拒绝 。
近日荷兰方面再次重申了ASML会继续供货的决心 ， ASML方面表示 ， 物理定律在荷兰和在中国是一样的 ， 这也就是说 ， ASML能做到的 ， 中企也能做到 ， 毫无疑问 ， 现在来看 ， ASML所预测的非常准确 ， 其实不仅是在DUV光刻机 ， 我们在EUV光刻机上也在快速发展 。

例如华为刚刚就公布了一项EUV光刻机专利 ， 实际上我们已经拥有了数量很可观的EUV专利 ， 在努力的不只有华为 ， 中科院上海光机所已经很早就在招聘EUV光刻机方面非常细分的岗位 ， 这表明我们对EUV光刻机已经非常了解 ， 近日对EUV光源方面也在进行招聘 。
【光刻胶|支持7纳米，国产“DUV光刻胶”通过验证，ASML继续供货做对了】