光刻机|外媒：ASML的EUV光刻机地位可能要被取代了！( 二 ) 极紫外光刻|芯片|阿斯麦尔|i

根据最新的消息传出， 3nm晶圆单片售价突破了2万美元，而多次涨价的5nm也仅为1.6万美元，这其中的差距可是很大的，并且在性能上提升并不明显，也难怪苹果不愿意采用了。
目前华为在光子芯片、超导量子芯片的研发上，已经取得了非常不错的进展，并且掌握了大量的核心技术专利，国内首条的光量子芯片生产线已经在布局，说明这项技术已经从理论走向了商用，距离最终的突破不远了。

而在摩尔定律极限的限制下， EUV光刻机的研发即将到头，全新一代的NA EUV光刻机很有可能是末代产品，虽然能够支持两纳米芯片的制造，但目前还没有哪一个领域需要用到这么高端的芯片。
先进芯片需求下滑已经成为了事实，面对智能汽车、物联网布局的崛起，中低端芯片的需求将会持续攀升，这样的情况将维持至少五年左右，这五年时间足以改变很多，新技术一旦实现了突破， EUV光刻机利用率肯定是要下滑的。

因此外媒的推测是对的，再先进的技术遭到“雪藏” ，终究要面临被淘汰的命运， EUV光刻机也是如此，如果后续不能恢复市场合作，注定难以与时代接轨，对此你们是怎么看的呢？