CPU|各国对光刻机的研究进程，美国能生产0.768纳米芯片，中国也很强红米手机|电池|高通骁龙

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谁能够生产出更先进的芯片，谁就能够获得更多的订单、更高昂的利润，更是证明了一家企业和国家的科技水平，甚至能够提升一个国家的整体实力，但生产芯片是非常困难的，在目前的生产工艺当中，都需要用到光刻机，但在光刻机领域，荷兰的的阿斯麦公司一家独大，其他的芯片生产厂商都无法摆脱他，尤其是在高端光刻机领域，阿斯麦公司更是达到了垄断。

可以说阿斯麦公司生产出来的高端光刻机，一机难求，需要提前很久预定，才有可能拿到。由于阿斯麦公司处于垄断地位，所以很多企业和国家都非常忌惮，要想办法超越阿斯麦公司，这样一方面可以获得很多订单，另一方面也不用被阿斯麦公司掣肘，其中我们国家的很多科技企业也提出了一些方案，由于EUV光刻机制造起来非常困难，所以想要通过其他路径生产高端芯片。

其实阿斯麦公司在刚诞生的时候并不是光刻机行业龙头，在很早以前，佳能和尼康才是光刻机行业的龙头，他们连美国企业都能够打败，但是在后面的发展当中，走错了发展道路，从而被阿斯麦公司碾压了。虽然这几年佳能和尼康一直在奋力追赶，但销售量仍然无法和阿斯麦公司媲美，比如尼康拥有ArFi、ArF中端设备， i-line、KrF低端设备，但最主要的产品还是低端光刻机。而佳能为了能够夺回市场，正在和铠侠等企业进行合作，把资金放在了NIL纳米光刻技术上。

【CPU|各国对光刻机的研究进程，美国能生产0.768纳米芯片，中国也很强】
目前的光刻机在生产芯片的过程中，主要使用光源曝光这一方式，而纳米压印光刻技术则是微电子技术和印刷技术进行结合，通过电子刻蚀技术加工出芯片的图案，从而完成芯片生产。按照理论来说。 EUV光刻机的分辨率更低一些， NIL纳米技术的分辨率要高一些。如今，这两家企业已经在15纳米闪存上应用了相关技术。并且一直在把这项技术提升到更高的工艺上，有可能会在2025年应用在五纳米工艺当中。佳能看到了弯道超车的可能性，直接投资了500亿日元建立最新的厂房，想让NIL设备进行大规模的生产。如果真的如佳能预想那样，那么2025年将会出现一款实力强劲的产品，甚至能够抢夺阿斯麦公司高端光刻机的市场。在高科技行业，某个公司的垄断只是暂时的，因为技术更新太快了，阿斯麦公司也在遭遇一些冲击。

不仅日本在对光刻机行业发起冲锋，美国更是不遗余力的加大投入。目前老美生产的一款光刻机能够生产0.768纳米芯片。这样的工艺程度就连阿斯麦公司最强的Hign-NA EUV光刻机都无法实现，美国光刻机采用了EBL电子束光刻技术，虽然这款光刻机生产出来的芯片非常先进，但也有明显的缺点，那就是产量很低，只能生产出数量很少的先进芯片，无法大规模的投入市场。

其实，老美就算自己不生产光刻机，从阿斯麦公司那里购买也是没有没有问题的，但阿斯麦公司毕竟属于荷兰企业，老美还是有些不放心。再说，老美的企业也想获得更高的利润，所以自己生产光刻机，这是必须要走的路子。另外，俄罗斯也在光刻机领域奋力追赶。之前，俄国官方声明，俄国对光刻机进行了研发，采用了X射线技术，能够对7纳米芯片进行量产，预计会在2028年进入市场。