芯片|中国急需攻克的五大顶尖技术，一旦突破，将不惧任何国家垄断光刻胶|光刻机|工业机器人

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文|青源科技谈
人类社会进入到信息化时代，随处可见的都是高科技技术产品，小到遥控器，大到汽车几乎都离不开人类工业文明的发展成果。而这些成果有不少掌握在国外公司手中，不仅赚取巨大的销售额，还垄断了行业市场。

对方随意修改规则便能影响消费市场获取技术支持，因此自研成为了突破的重点目标。其中在五大顶尖技术方面急需突破，一旦突破，将不惧任何国家垄断，有哪五大技术呢？

第一：光刻机
现代社会离不开芯片的支持，任何的智能终端产品都需要搭载芯片，而光刻机就是制造芯片的重要工具。
在芯片制造过程中，需要将设计好的芯片图案复刻在晶圆表面，但即便是28nm ， 14nm的成熟芯片也会集成几十亿根晶体管。
如何在有限的单位面积内曝光更多的晶体管数量，让每根晶体管纵横交错，甚至在上百个层级中错落有致，这就需要光刻机运用深紫外或极紫外光源来实现了。

以EUV光刻机为例，波长为13.5nm ，运用多重曝光可以轻松完成7nm及以下的高端芯片制造。只不过目前只有荷兰ASML一家公司掌握EUV光刻机量产技术，也是许多国家争相突破和发展的目标。
第二：光刻胶
光刻胶同样是半导体行业的关键技术之一，属于原材料的一种，而且和光刻机的联系非常密切。光刻胶作为一种光敏化学材料，需要涂抹在晶圆表面，用于保护衬底基座，并且在接收光刻机的曝光光源时承担媒介的作用，将芯片图案转移到晶圆上。

越高端的芯片同样需要越高端的光刻胶支持，日本JSR、富士化学、东京应化、信越化学这些日企掌握了全球9成以上的光刻胶市场，对中高端的DUV ， EUV光刻胶有极大的话语权。
如果想要顺利完成高端芯片的制造，那么突破光刻胶核心技术也是一大关键。
【芯片|中国急需攻克的五大顶尖技术，一旦突破，将不惧任何国家垄断】第三：EDA工业软件
一款芯片诞生之初离不开设计，就像盖一栋高楼大厦之前，需要设计好图纸。按照图纸来规划楼层的框架，每一个空间面积内的细节分布也需要通过精密的设计来完成。

同样的道理，芯片具备怎样的功能，性能和制程都离不开EDA工业软件。使用EDA来完成芯片设计过程中的布局、布线、版图等一系列工作。
虽然EDA属于软件程序，但市场份额高度集中，被美国新思科技、楷登电子、西门子三家公司垄断。 EDA素有“芯片之母”之称，可见其重要程度是非常高的。
尽管不需要投入太多的硬件设施搞研发，可EDA涉及到大量的专利技术，对于后来者而言，是一道必须绕过的门槛，在更多的路径上进行探索。

第四：高端医疗器械
医疗行业是人类最复杂的学科之一，涉及到方方面面的科学技术多如牛毛，也因此造就了庞大的高端医疗器械市场。
类似达芬奇手术机器人、核磁共振仪、高速离心机、冷冻电子显微镜、高效液相色谱仪等等都是顶级的高端医疗器械设备，而他们都有不少共同点，价格昂贵，且核心市场被国外公司垄断。