光刻机|弯道超车？俄罗斯研发的EUV光刻机需要解决什么问题？光刻机

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在民用消费市场，高端芯片的重要性已经不言而喻，而随着芯片禁令的不断升级， EUV光刻机的重要性也随之浮出水面，成为当下半导体产业的香饽饽，很多国内半导体设备厂商都在加大研发力度，比如上海微电子等。
我们知道，一枚芯片的诞生需要经过设计、制造、封装和测试等环节，其中设计、封装和测试等环节我国都已实现自主可控，但制造环节由于缺乏EUV光刻机，目前还处于被卡脖子的处境。
EUV光刻机是制造高端芯片必不可缺的半导体设备，它是全球各国先进工业技术完美集合的诞生体，其生产制造是非一国之力就能完成的。长期以来，高端EUV光刻机都被荷兰ASML公司所垄断，我国由于起步较晚且是被禁运对象，因此，被卡脖子是不可避免的，为此，我国也加大了产业扶持力度，以图尽早实现光刻机的自主研发。

尖端科技我国一直都是靠自力更生实现自给自足，光刻机的研发也不例外，这个过程是孤立无援的。但是近期，俄罗斯也宣布将入局研发EUV光刻机。如此一来，在EUV光刻机的研制上我国或将不再孤立，有可能与俄结成盟友，改变孤立无援的局面。
芯片禁令对我国影响较大，尤其是部分企业，比如华为。但其实俄罗斯目前也遭受如此境遇。由于俄乌战争的影响，很多国家和科技企业都陆续停止了在俄罗斯市场的服务和运营，其中就包括芯片，俄罗斯的第一芯片制造商也遭受了制裁。
面对如此情况，以俄罗斯的个性自然是予以反击。
据悉，俄罗斯已同意开始研发EUV光刻机设备，且首轮投资约6.7亿资金。不过与ASML的EUV光刻机不同的是，俄罗斯研发的是基于同步加速器的无掩膜X射线光刻机设备，相当于直写光刻机。
直写光刻机并不是首次出现的概念，我国也有很多企业在研发此类光刻机，比如芯碁微电子装备。从技术层面上来说， X射线波长介于0.01nm到10nm之间，分辨率比ASML EUV光刻机还要高，在加上不需要掩模版，理论上会更具优势。

有利就有弊，阻挡X射线光刻机发展的一个致命缺点就是无法实现大规模量产，原因是其生产效率极低。 X射线光刻机需要光束雕刻，相比于ASML EUV光刻机的曝光成型，速率自然是大打折扣，而这对于制造企业来说是难以容忍的。
【光刻机|弯道超车？俄罗斯研发的EUV光刻机需要解决什么问题？】如果俄罗斯能够解决生产效率问题，相信X射线光刻机将会是ASML EUV光刻机一个很好的替代方案。