佳能|三星掌门人赴荷兰协调光刻机供货 誓与台积电决战3nm市场

佳能|三星掌门人赴荷兰协调光刻机供货  誓与台积电决战3nm市场

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佳能|三星掌门人赴荷兰协调光刻机供货  誓与台积电决战3nm市场


6月15日报 , 三星掌门人李在镕与荷兰首相马克?吕特进行了会晤 , 除了讨论半导体行业、供应链相关问题之外 , 还提到李在镕希望首相能帮助协调ASML提供EUV光刻机供货问题 。
报道称 , 预计李在镕随后还将到访ASML总部 , 进一步接洽相关事宜 。 三星方面此前曾表示 , 将争取其订购的EUV光刻机尽早到货 , 帮助其在先进制程竞争中获得优势 。
台积电在芯片代工的市场上占有率达到了56% , 三星电子作为万年老二 , 不管是在业务还是芯片制造技术上一直想着超过台积电 。
失败的4nm三星4nm芯片问世之后 , 产品表现备受争议 , 有确切的数据证明 , 三星4nm的良品率只有约35% , 大幅低于台积电的70% 。
于是三星将大部分的时间精力放在4nm制程的维护和完善上 , 而这又直接导致了3nm制程的研发进度被耽误 。
与此同时 , 三星还传出伪造并虚报 5nm、4nm工艺良率的负面消息 , 这些负面消息导致高通在骁龙 8+ Gen1 发布之前 , 紧急将三星订单交给台积电来代工生产 。
经此一役 , 三星元气大伤 , 6月3日 , 三星宣布更换公司半导体研发中心的负责人 , 现在由副总裁兼闪存部门总经理Song Jae-hyuk接替 。
有人说 , 4nm的失败 , 也不全是三星的锅 , 毕竟后来高通也声明自己的设计方案存在缺陷 , 但是市场口碑已烂 , 于是三星只能将目光转向3nm 。

输在起跑线上的3nm
一个月前 , 三星对旗下芯片工厂发起了一轮审核 , 调查用于提升良率的资金是否有所落实 , 因为目前试生产的3nm芯片良率已经低到令人难以置信 。 据报道 , 三星的晶圆代工部门3nm制程的芯片良率目前只能维持在10%-20% 之间 。
有业内人士表示 , 三星第一代 3nm 工艺不太可能被外部客户采用 , 量产初期可能仅用于自有产品的生产 。
就在三星为3nm芯片上市一筹莫展时 , 有分析师称 , 台积电将在今年下半年向苹果批量交付3nm制程的M2 Pro芯片 , 足以说明眼下台积电的3nm工艺已经具备量产条件 。
而且 , 台积电宣布2nm晶圆代工厂的评审文件已提交送审 , 第一期工厂预计在2024年底前投产 。
面对这些消息 , 李在镕怎么能坐得住?据报道 , 李在镕此行荷兰的主要目的就是为了抢夺ASML光刻机的优先供货权 , 以保证晶圆代工业务的顺利进行 。
从供货时间表来看 , ASML今年将向三星交付18台EUV极紫外光刻机 , 这其中就包括目前三星最关心的Twinscan EXE:5000 系列 , 未来可以满足3nm芯片的生产需求 。

孤注一掷的三星三星将自己的目标定的很高调 。
首先 , 三星芯片制造业务部门的目标是:击败台积电 , 在 3nm GAA 领域获得“世界第一”的称号 。
其次 , 根据三星之前的表态 , 3nm工艺将在2022年Q2季度量产 , 这个进度相比台积电的3nm工艺要激进很多 , 后者今年下半年也只能小规模试产 , 明年才会大规模量产3nm工艺 。 同时三星计划在6月到7月在韩国平泽市的 P3 工厂开工建设 3nm 晶圆厂 。
为了能够实现弯道超车 , 三星十分激进地改用GAA(环绕式栅极)工艺 , 相比于行业内早已轻车熟路的FinFET(鳍式场效应晶体管)工艺 , 前者在业内还未有成功开发的先例 。
5月份 , 三星电子宣布未来5年将投资3600亿美元用于半导体和生物制药等行业 , 其中80%将用于研发和人才培养 , 尤其是在先进逻辑芯片领域 。