光刻机|俄罗斯传出新消息，事关高端光刻机，ASML始料未及，华为成赢家华为|阿斯麦尔|x光

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【光刻机|俄罗斯传出新消息，事关高端光刻机，ASML始料未及，华为成赢家】

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ASML对掌握EUV光刻机的生产技术十分自信，表示即便放出图纸，别人也造不出。很多光刻机巨头也明白造EUV光刻机的难度，所以基本上只专注中低端光刻机，对高端EUV光刻机并未全力以赴。

然而俄罗斯传出新消息，计划研发媲美EUV的光刻机设备，自主打造高端光刻机。俄罗斯定下怎样的高端光刻机研发计划呢？能利好华为吗？

俄罗斯定下高端光刻机研发目标高端EUV光刻机的生产难度相信大家都有所耳闻，很多人为形容生产EUV光刻机的难度，会列出一大堆数据。例如采用10万个零部件， 90%的技术来自世界各国顶级科技，还有5000家供应商等等。
涉及到光刻机的四大件，更是需要几十年的技术沉淀，不是一个国家能独立造出来的。可我们一直被传统的思想观念给束缚了， ASML作为唯一能生产EUV光刻机的制造商，其在中高端光刻机技术领域采用的是深紫外和极紫外光技术。
最高的极紫外光EUV可以达到13.5nm波长，适用于7nm及以下的芯片制造。

可是俄罗斯另辟蹊径，没有从传统的极紫外光方向出发，而是打算采用X射线打造出媲美EUV光刻机的半导体设备。具体是什么情况呢？
据传来的消息显示，俄罗斯计划首期投资6.7亿卢布，由莫斯科电子技术学院承接高端光刻机项目。这一光刻机被称作无掩模X射线光刻机，计划达到EUV光刻机级别。

大致情况就是如此，俄罗斯拿出不菲的研究经费，还是由俄罗斯最顶级的研究学府机构参与项目。
但大部分人对于俄罗斯的这项举动是有些匪夷所思的，研发EUV光刻机何等艰难， ASML也是靠着背后几十个EUV联盟国的共同扶持才有的今天。
ASML生产的EUV光刻机自主技术占比只有10% ，其余均靠进口完成。而现在隔壁邻居犹如一叶扁舟，遗世而独立，怎么可能获得来自这么多国家的技术支持。

更何况是当下这种情况，又有多少供应商会供应技术。所以只能靠自己，那问题是俄罗斯自研高端光刻机有多大的把握，或者有哪些技术优势？
俄罗斯研发X射线光刻机的优势这就不得不提到X射线了， X射线比极紫外光有更短的波长，可以达到0.01nm到10nm ，这决定了X射线光刻机有更高的分辨率。对刻画更细小的芯片电路有更大的技术优势。
另外X射线光刻机没有光掩模版，省去了传统EUV光刻机光掩模复刻电路图到硅片上等多个步骤。如此一来，研发成本和生产难度都会大大降低。

最后一个就是俄罗斯有深厚的X射线技术积累，意味着俄罗斯并不是从头开始。估计只需要一定程度的推动和资金支持，加大对X射线光刻机的研发，就有可能获得实际成果落地。
所以俄罗斯研发X射线光刻机的优势是比较明显的，如果没有绝对的把握，估计对方也不会定下如此远大的目标。
俄罗斯肯定也知道EUV光刻机的生产制造难度有多高， ASML说公开图纸别人也造不出的话语，其实未必是在吹牛。