贴膜|外媒：EUV光刻机事件再现了！ iPhone 14 Pro

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相信很多人都听说过光刻机，光刻机对于芯片制造的重要性更是人尽皆知。如果我国能自主研发高精度的光刻机，就意味着我国离最先进的芯片距离不远了！
可事实上，即使是购入光刻机，美国都要多加阻挠，甚至禁止许多高精尖技术的企业与中国合作！
如今EUV光刻机事件再现了，这是怎么回事？

一、光刻机你了解多少光刻机从根本上决定了芯片的精密度以及性能。所以如果没有光刻机想要造出如今最先进的五纳米芯片，简直就是痴人说梦！
光刻机最重要的部分就是其成像的镜头，这些看起来平平无奇的镜片，能够占到整台机器总价的百分之四十。这个镜头为什么价值会这么高？其实光刻机从本质上来说，就是一台能够造芯片的巨型照相机，它通过曝光显影把光掩模上的集成电路图形复制到硅片上。

我们都知道好的相机照出的照片更加真实高级，一台好的光刻机也能制造出更“高级”的芯片。而决定光刻机能否造出更“高级”的芯片取决于光刻机的分辨率。这个分辨率和我们平时看到的电脑的分辨率可不同，这个分辨率指的是衍射极限分辨率。
通俗来讲，就是光刻机单次曝光能够刻出的最小尺寸。所以光刻机的分辨率越小，越能够制造出更精细的芯片，看到这里，大家应该就很清楚，这里面的镜头为什么会这么贵了吧！那如何才能缩小光刻机的分辨率呢？

对于光刻机来说，要想缩小分辨率要么缩小光源的波长，要么增大镜头的数值孔径。要想改变这其中的任何一项，都需要经过复杂的研究和计算。目前能够生产光刻机的主要厂商是德国和日本的三家企业，分别是蔡司、尼康和佳能。
为什么全球的主要厂商只有这三家？光刻机为什么会这么难造？首先就是因为镜头结构复杂，既要使用大量的镜头来解决相差问题，又要想方设法提高数值孔径。

所以光刻机的制造是一项“强强联合”的结果。这其中包括光学、力学、机械、材料、测控、热仿真等。而且光刻机的制造和所有的高端制造业一样，光刻机的镜头需要足够的人才储备和技术积累，光刻机的三家主要厂商已经掌握了主要的技术。
我们作为新玩家，要想绕过他们的技术壁垒和设计专利并不是一件容易的事情。
而更难的地方在于工艺经验、机床设备和测量仪器这些最基础的东西。我们作为“新手” ，这些对我们来说基础和经验几乎为零，加上美国的制裁，要想造出我们自己的光刻机可谓是难于上青天！

二、光刻机事件再现了我们都知道美国对中国芯片的制裁是非常严重的，在没有美国的同意下，荷兰的ASML公司很难实现为我国提供EUV光刻机。原本以为美国只是针对中国的企业引进EUV光刻机，可是SK海力士的出现，瞬间让我们明白，局势远比我们想的更加艰难！
前段时间世界第三大DRAM制造商SK海力士想要在我国的无锡建立工厂，要知道这是一家芯片生产公司，建立工厂光刻机自然是必不可少的。可就在要引进光刻机的时候，美国出面制止了！