光刻机|再见了,ASML?国产光刻机“破冰”关键一步

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ASML加紧对大陆市场的出货 , 看起来是件好事 , 帮助国内建立芯片产业链 。 可是如果大量采购ASML的光刻机 , 将来国产光刻机落地之后 , 还能获得订单吗?

所以不能一直依赖进口 , 还需要投入自主研发 , 避免EUV光刻机不能出货的现状扩散到更大的范围 。 在国产光刻机持续发展的背景下 , 国产光刻机“破冰”了关键一步 , 启尔机电完成浸液系统的一项突破 。
那么什么是浸液系统呢?是否要和ASML说再见了?

国产光刻机“破冰”浸液系统芯片制造的复杂程度远超想象 , 很多人以为只要掌握相应的制程工艺 , 就能实现芯片生产 。 可实际上 , 在几十道的工序步骤中还会经历各式各样的环节 。
就拿光刻步骤来说 , 需要在硅片的表面进行清洗和烘干 , 紧接着涂抹光刻胶保护衬底 , 光刻机光源对准晶圆曝光 , 然后进行显影等环节 。

流程看似简单 , 可是要实现每一步的推进都是非常困难的 。 如果把顶级的光刻机拆分 , 至少有十万个零部件 , 这么多的零部件来自全球5000多家供应商 。 所以看起来普普通通的光刻环节 , 其实动用了全球顶级科技力量 。
当然 , 光刻机也分为高端和中低端的 , 高端的EUV不用多说 , 是一个长远的目标 。 但是在中低端光刻机领域 , 距离最终的突破并不遥远 。 在这个领域中 , 国产光刻机“破冰”关键一步 , 由国产厂商启尔机电完成浸液系统的突破进展 。

根据传来的消息显示 , 启尔机电极大控制了高精度液体 , 把温控误差降低到了正负0.001度以内 。
这是启尔机电面向浸液系统的一大突破力作 , 为国产光刻机的发展定下基调 。
那么什么是浸液系统呢?启尔机电的突破对国产光刻机意味着什么?
启尔机电的突破意味着什么?首先要明白的是浸液系统属于浸没式光刻机的四大件之一 , 和其它的光源、物镜、双工件台是同一级别的研发难度 , 重要性不言而喻 。

在研制浸液系统时 , 需要解决去离子水 , 液体选择以及气泡去除等一系列难题 , 启尔机电此次突破是在控制液体温差技术上取得了进展 。
【光刻机|再见了,ASML?国产光刻机“破冰”关键一步】启尔机电的这项突破对国产光刻机来说 , 意味着距离28nm光刻机的实际落地越来越近了 。 和大家想象的不一样 , 启尔机电此次突破更多是应用于ArF光源 , 对应波长为193nm 。
在这个波长中的浸没式光刻机理论上可以用在7nm芯片生产 , 但实际发展对应的芯片生产制程为28nm到22nm 。

全球主要的ArF光刻机市场份额掌握在ASML手中 , 但随着上海微电子加速国产光刻机的研发 , 翘首以盼的28nm国产光刻机可能就要来了 。
启尔机电完成浸液系统的突破 , 可对应28nm制程工艺 。 经由上海微电子参与ArF浸没式光刻机研发 , 在28nm制程中抱有很大的破局希望 。 一切只是时间问题 , 相信只要耐心等待 , 就能看到最终的国产28nm光刻机亮相 。
也许有人感慨 , 就只是28nm呢?ASML都已经研发到了5nm , 未来量产新一代的NA EUV光刻机还能生产2nm芯片 。