国产光刻机往事：难，真的是难… 国人普遍对光刻机唉声叹气之

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国人普遍对光刻机唉声叹气之时，全球光刻机龙头ASML首席执行官彼得·温宁克却曾表示：
“如果不将光刻机卖给中国，五年之内，他们必将掌握所有的EUV光刻技术，十五年之后， ASML公司或将失去行业话语权！”
我们能做到吗？

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1956年，周恩来总理收到了一份六百万字的草案，在这份《十二年科学技术发展远景规划》中，中科院的学部委员们提出了57项重点发展任务。
看着厚厚的资料，周总理向专家们请教：“这么多重点，国务院应该主要抓哪些？”
最终， 57项任务被凝结为四大紧急措施：计算技术、无线电电子学、自动学和远距离操纵技术，以及半导体技术。
新中国对半导体的重视的确不算晚。两年后，美国德州仪器的基尔比、仙童半导体的诺伊斯，才几乎同时做出人类史上的第一块集成电路，打开了潘多拉魔盒。
作为集成电路（芯片）制造的必备设备，光刻机从此走上历史舞台，走进发展快车道。中国光刻机的发展，也从此时开始。
1961年，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机。而一个广为流传的说法是， 1966年，中科院下属109厂就与上海光学仪器厂协作，研制成功了我国第一台65型接触式光刻机。
早期的光刻机复杂程度和照相机差不多，技术难度不高，所以大家的差距也没那么大。
半导体市场的快速发展，推动着光刻机的需求和生长。日本的佳能、尼康，美国的GCA公司，以及接受军方投资的PerkinElmer公司，都开始进入这一领域，中国虽然相对落后，但在相当长时间内，也算是亦步亦趋地紧跟产业步伐。
即便在动荡年代，中国也依然在向光刻机产业发起冲锋，虽然这个过程充满艰辛。
1971年，在江西鄱阳湖畔学习水稻种植的徐端颐，突然接到一个来自北京的电话，原本就是清华大学精密仪器系教师的他，要回京负责新一代光刻机的研发。
清华大学为徐端颐配备了数百人的团队，有技术超群的钳工，有搞精密机械加工的，还有从其他单位调来的搞计算机控制的老师和技术工人。群贤毕至，却没有一个人搞过光刻机。
组建这样一个“草台”班子，多少有些无奈。
新中国刚成立没多久，美国、英国、日本等17个国家，搞了个国际巴黎统筹委员会（简称巴统），旨在限制成员国向社会主义国家出口战略物资和高技术，列入禁运清单的有军事武器装备、尖端技术产品，中国也在封禁之列。
随着半导体的蓬勃发展，光刻机也被巴统列为尖端产品，对华实行禁运。而国内很少有从事光刻机的专业人才，只能从相关学科中调兵遣将。
底子薄、基础差，还有“巴统”这样的镣铐，落后在所难免。
1973年，美国PerkinElmer公司推出首台扫描投影光刻机，这种光刻机精度高，又改变了把光掩模压在光刻胶上的技术路线，芯片生产的良率从10%一夜之间提升到70% 。但国内仍停留在接触式光刻机时代。
落后就要挨打，深深地刻在一代人的印记里，得到消息的中国决心奋起直追。
1977年，在江苏吴县（今苏州吴中区），专门开了一场光刻机技术座谈会，与会的67名代表指出：光刻设备和工艺极为重要，要提高光刻机技术，让中国半导体设备赶超世界先进水平。
人的潜力，在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致。