安森美|有望直线超车!进击的中国“第三代半导体”( 四 )


“第三代半导体”以氮化镓、碳化硅为代表的化合物半导体,主要面向三个市场:光电子、电力电子和微波射频,更通俗一点说,像手机快充、新能源车、轨道交通和国家电网等是民用领域的几大市场。
国内提出“第三代半导体”这个概念,主要是跨领域交流和工作汇报,因为行业术语有时让人理解困难。但这个词很容易也让人们产生一种错觉:第三代比第一代强。实际上,这类半导体材料在国际上的通用说法叫做“宽禁带”,指的是禁带宽度大于2.2eV的半导体材料。而在工信部等相关文件中和十四五规划里都称为“宽禁带”半导体,而非“第三代半导体”。
庞大的终端应用市场加上过去十余年间持续投入,我国在“第三代半导体”领域同国外先进企业的差距的确很小,但很小并不代表完全没有差距或者软肋。以碳化硅为例,最核心的问题是基础材料,比如高纯的碳粉和硅粉,我们在提纯技术上有差距;而在碳化硅设备里,我们缺乏高纯的石墨坩埚技术;做器件的时候,我们的光刻机、光刻胶也是个问题。碳化硅半导体的制造设备仍较多依赖进口,特别是“外延炉、离子注入机”等造价昂贵且有门槛的设备,动辄几百万上千万元人民币,主要还是靠买国外的,而氮化镓也面临类似问题。
总体而言,国内想要在“第三代半导体”领域有所建树并不难,但想要拥有完整的体系,并在系统体系上形成优势或超越,恐怕还有很长的路要走,这或许也是强链、补链、延链的意义。