光刻机|光刻机专利被公开后，南京正式提出申报，难怪ASML要着急出货阿斯麦尔|南京|软件

网络中有这样一句话：即便把光刻机图纸交出来，想要制造也是异想天开。乍一听上去，这句话充满了傲慢和偏见，但实际上这句话并没完全没有道理，只不过要问其中的酸楚，唯有中芯国际的理解最为深刻。

由于设备供货规则的修改，中芯国际在尖端制程上的突破戛然而止，梁孟松带领的团队虽然已经在理论基础上将芯片制程提升至7nm ，但是EUV光刻机的无法到位使得一切只能纸上谈兵，高端芯片的上升通道被拦腰斩断。或者直白一些讲，如果中芯国际想更进一步，光刻机这一关是无法绕开的。
很多人不理解，为何一台光刻机能拦住中芯国际的研发脚步？其实从表面看， ASML是国际光刻机巨头不假，但如果从本质上去分析， ASML量产EUV光刻机的实力，也是很多国家的技术实力的汇总表现。这就像是一条流水线，把各个国家自己最擅长的能力展现出来，最后才能得到一台光刻机。

反过来讲，如果想要独自去制造一台光刻机，就需要突破各个国家的专利封锁，然后进行重新的资源整合，方可攻破光刻机的垄断趋势。因此不难发现，在细化分工的供应链体系中，拥有一项光刻机专利是多么重要。有意思的是，根据知识产权局公布的信息显示，有家中企却选择对一项光刻机专利进行公示。

据了解，公开光刻机专利的企业是传芯，被公开的专利其重要用途是简化光刻的工艺，并提高光刻机的分辨率和对比度，具体的名称为“曝光成像结构、反射式光掩模板组及投影式光刻机” 。虽说暂不知晓该专利的公开会不会扰动现有的供应链，但敢于公开专利的举动，则直接表明中企在研发端是具备相应实力的。
事实上，像传芯一样敢于“亮剑”的还不只是传芯。相信大家都知道，前几天EDA软件被传出被限制使用的可能性，且未来芯片尖端制程将无法再轻易获得授权，此举引发了很大关注。至于原因也很简单， EDA软件主要控制权都在三大美企的手中，留给国产企业的路只有一条，那就是靠自身实力去研发。

既然已经尝过芯片和光刻机被卡脖子的滋味，自然类似的错误我们不能再犯，想要拿到自主权就必须要加大研发力度。好在我们并非没有后招，据媒体报道，南京方面已经正式提出了申报，我们自己的EDA创新中心的审批工作已提上日程，一旦审批获得通过将直接助力国产企业加快EDA软件的研发。
一边是光刻机专利被公开，另一边是国产EDA创新中心等待审批，结合上述两件事，突然明白了，为何此前身为光刻机巨头的ASML要着急出货，并且还公开表达了对于国内市场的期望。其实核心原因只有一个，那就是钱。

公开资料显示，在没有EUV光刻机的参与下，仅一季度就有23台光刻机进入国内市场，是ASML在全球的第三大光刻机市场。因此站在ASML的角度，看到光刻机的部分专利被公开，心里自然是慌乱的，毕竟我们国内还有上海微电子等企业可以掌握光刻机的制造技术，如果对应的专利被它们彻底掌握，势必会抢占ASML在国内的市场份额。