芯片|EUV时代翻篇?量子芯片迎来突破,ASML不愿意看到的情况出现

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众所周知 , 自从美修改规则之后 , EUV光刻机就成了国产芯片最大的“心病” 。 作为7nm以下高端芯片制造的核心设备 , 全球能生产的只有ASML , 这家荷兰企业自2015年开始 , 就开启了EUV时代 , 包括台积电、三星、英特尔在内的顶尖代工巨头 , 都离不开其设备支持 。
然而 , 近两年老美却把EUV光刻机当成了阻碍我国芯片产业崛起的“工具” , 严格限制ASML向大陆企业出口该设备 , 此举导致中芯国际始终无法突破7nm芯片的瓶颈 , 现阶段最高只能为客户代工14nm工艺芯片 。

虽然中科院等国内机构企业已经展开了对EUV光刻机的自主研发 , 但由于该设备所涉及零件太多 , 超过了10万个 , 运用技术也太过广泛 , 例如美国光源、德国镜头、瑞士机床等等 , 国内很难在三五年内实现EUV光刻机的国产化 。
面对这种情况 , 中国科学家提出了“两条腿”走路的策略 , 一方面是保持对EUV研发的专注 , 不断积累技术经验;另一方面 , 则是寻找新的芯片赛道 , 诸如碳基芯片、光子芯片、量子芯片等等 , 以求弯道超车 。

之所以布局“新赛道” , 不只是因为在老美的严密封锁下 , 国产芯片没有任何退路 , 更是由于传统电子芯片来到3nm之际 , 摩尔定律已越来越逼近物理极限 , 如果继续以EUV光刻机为基础去盲目追求高性能 , 结果只会造成芯片的制造成本飙升、偏离商业轨道 。
而在“新赛道”的选择上 , 被誉为半导体材料究极形态的量子芯片无疑是呼声最高的一项 , 如今也是中、美等很多大国的重点发展项目 。
据测试结果显示 , 量子芯片的性能至少是电子芯片的千倍以上 , 其应用范围也更广 , 而且 , 量子芯片的制备主要是把量子线路集成在基片上 , 无需使用EUV光刻机 。 可以说完美的避开了国内半导体市场的短板 。

让人感到振奋的是 , 我国在量子芯片的研发方面走在了世界前列 , 华为前不久公布的超导量子芯片专利就是最好的体现 , 此项技术可有效降低量子比特之间的串扰难题 , 大幅提升量子芯片的良率 , 这是英特尔等美芯片大厂都未曾取得的成果 。
就在近日 , 国内市场再次传出了量子芯片突破的好消息 , 国产量子计算机“悟空”即将步入应用阶段 , 其计算速度领跑全球 。 与此同时 , “悟空芯”也在合肥量子芯片产线上正式迎来量产 。

另外 , 国内这首条量子芯片产线所应用的核心设备“无损探针台”NDPT-100 , 也是由本源量子自主研发 , 该设备可精准探测生产出的量子芯片的性能表现 , 从而“择优去劣” , 有效提高制造良率 。
值得强调的是 , 国内不仅打通了量子芯片的设备壁垒 , 在最基础的设计软件方面 , 本源量子早在今年4月份就已开发出了本源坤元“Q-EDA” 。 这意味着 , 在量子芯片领域 , 国内市场基本打造出了完善的产业链 , 不用仰人鼻息 。
对于饱受美芯“卡脖”之痛的国内芯片市场而言 , 量子芯片的此次突破 , 堪称是我们“翻身做主人”的关键转折点 。 不过 , 从全球芯片市场的角度来看 , 这却或许是ASML最不愿意看到的情况 。