南京大学传来消息，国产EUV再进一步！ASML：这太快了吧几十年来

几十年来，芯片的进步一直按摩尔定律在推进，向微缩方向发展非常依赖光刻机。虽然快要接近极限，但ASML近日表示，现有的技术还能够将芯片制程推进到1nm 。
还明确表示摩尔定律可继续生效10年甚至更长时间。也就是说，目前的芯片工艺还将持续，我们也有必要突破EUV光刻机。近日，好消息传来，国产EUV又有突破！

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EUV国外反映侧面证明
EUV光刻机是生产7nm以下高端制程的必要设备，目前只有ASML一家能够生产，但由于相关限制，不能出货中企。尽管ASML想争取自由出货许可，但美却不放松。
虽然目前芯片的主流是成熟制程芯片，可以满足绝大多数的需求，但高端芯片也不能放弃。事实证明，只有在追求更先进技术的过程中，我们才会不断取得更大的进步。
而要实现高端芯片， EUV是最大的绊脚石。为此，就必须推进EUV光刻机国产。

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那么，我们到底有没有在做EUV ， EUV又进展如何呢？从国外两个反应就能明白。
一个是光刻机巨头ASML 。一旦我们突破了EUV ， ASML将不再被需要了，所以最不想看到我们光刻机进步的就是它了，因此ASML对国产EUV的反应是最真实的。
【南京大学传来消息，国产EUV再进一步！ASML：这太快了吧】之前， ASML曾多次表示EUV制造相当复杂，甚至给了图纸我们也造不出来，那时只是想要打消我们的积极性。后来ASML总裁却表示不是完全不可能，大陆会尝试。

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这说明了什么， ASML应该看到了我们的进步，也开始不再淡定、没那么自信了。为此还公开发出了警告，限制只会促进大陆技术进步，不出15个，他们将突破所有。
另一个是日本光刻胶巨头。近期也对我们EUV发声了，表示我们根本突破不了。
泼凉水也是惯用的招数，直指我们EUV光刻胶做不出来，试图让我们放弃。这应该是ASML后找的另一个代言吧，因为我们如果突破了EUV ，光刻胶就更不是问题。

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国内EUV进步点滴成河
国外的发声都是想要影响我们的EUV进步，其实他们站出来发声已经说明问题了。因为他们看到了我们的进步。如果我们没什么进步或进步不大，估计连提都不会提。
这在一定程度上说明，我们国产EUV进步改变了他们之前蔑视的态度，已经从蔑视甚至变为了恐惧。因为前段时间，中科院又大举招聘EUV光刻机方面的相关人才。
这些人才主要负责EUV光机结构、光源控制等实际操作，已经开始侧重应用方面。

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中科院是我们最厉害的科技研发机构，在芯片禁令实施后，院长白春礼就曾公开表示，将会重点攻坚光刻机等卡脖子技术。这可不是随便说说，而是发起了冲锋的号角。
中科院往下的长春光机所、上海光机所等都分别负责EUV相关技术方面的研发，都有不少突破，其中长春光机所攻克了EUV光刻机核心部件光学投影物镜的关键技术。
还有上海光机所前段时间也突破了多项技术，都在助力国产EUV光刻机的突破。